...ASML卖百台光刻机,尼康同表态中国大陆为重要市场;大基金二期...

美拟对华芯片贸易实施更严厉管制;ASML卖百台光刻机,尼康同表态中国大陆为重要市场;大基金二期成立硅材料公司;存储超级周期回归1.美向盟国施压拟就对华芯片贸易实施更严厉管制外交部:希望相关国家坚决抵制胁迫2.大基金二期、沪硅产业等成立硅材料技术公司注册资本55亿元3.存储超级周期回归三大DRAM厂利润差距或...

绕开EUV光刻机?日本突破关键技术,人民日报:抛弃一切幻想

其中日本佳能已经突破了关键技术,其研发的纳米印压(NIL)光刻机技术为例,该技术通过直接将电路图案精准地印在晶圆板上,实现了对EUV光刻机的有效替代。不仅如此,NIL技术还具有成本低廉、生产效率高等优点,有望在未来成为芯片制造领域的重要技术之一。中国芯片产业应该密切关注这些新型技术的发展动态和趋势变化,积极寻求合...

比光刻机更精密的组织:台积电的权力和帝国

而当年意气风发的梁孟松则是被投闲置散,平调到基础架构专案处长一职,被派去执行一个刚启动的“超越摩尔计划”,管理两座工艺落后的晶圆厂,四舍五入等于打入了冷宫。企业里的权力斗争也是残酷的,接班背后往往是站队问题,失败通常就意味着上升通道的终结。梁孟松一度有8个月没有事情可做,白天就坐在办公室里,因为害...

佳能纳米压印光刻机迎来重大突破!

通过研究纳米压印光刻技术的能力,这些公司可能会也可能不会在其晶圆厂采用NIL技术。据日经新闻报道,佳能似乎对这些试验寄予了很大的希望——因为它的目标是在未来三到五年内年销量达到10到20台。传统的DUV和EUV光刻系统使用光将光掩模的电路图形投射到覆盖有光刻胶的晶圆上。相比之下,纳米压印光刻...

源达研究报告:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

二、光刻机是半导体设备明珠，对芯片生产至关重要光刻机是半导体制造中最核心的设备，光刻机的性能直接决定晶圆产线的制程节点和产能上限。现代光刻机通常采用投影式光刻技术，原理是将调制后的光束透过掩模板照射在涂有光刻胶的晶圆表面，从而实现将掩膜版上的线路图等比例缩小转移至晶圆表面的光刻胶上，再...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?接近ASML 2015年的水平

05专家表示,国产光刻机向前迈了一小步,国内晶圆厂扩产自主可控可期(www.e993.com)2024年11月5日。以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考本报记者李玉洋上海报道波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。

国产光刻机官宣成功 产业链这些上市公司迎来机遇

国产光刻机技术的持续突破，让不少机构都在看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。业界普遍认为，官方披露核心设备进展也会在一定程度上提振市场信心，国产光刻机相关产业链也会受益。国产光刻机实力如何？按照市场监管总局等5部门于今年4月联合印发的《中国首台(套)重大技术装备检测评定管理办法(试行...

重大消息!光刻机概念全线爆发

业内人士指出,官方披露核心设备进展提振市场信心,国产光刻机相关产业链受益,国内晶圆厂扩产自主可控可期,国产半导体设备整体受益。此外,海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求,国产光刻机技术亦在持续突破,利好半导体设备自主可控的长期发展,继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。

国产光刻机重大突破,半导体行业持续复苏!光刻机概念集体爆发

比如纳芯微、芯联集成等公司,均在近期发布了并购重组方案,积极推动技术和产品的协同发展。民生证券在研报中指出,国产光刻机技术不断取得突破,利好半导体设备自主可控的长期发展,继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。后续可关注北方华创、中微公司、精测电子、拓荆科技等公司。

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

而且,并不是所有芯片都需要先进制程。大把的模拟芯片、功率芯片、存储颗粒用不到先进制程。这些芯片占据了巨量的市场空间。国产晶圆厂完全可以乘着新能源发展的浪潮,先拿下非先进制程的芯片。然后通过积累的资本和技术反馈到上游设备公司。不过唯一可以确定的是,这台光刻机肯定做不了7nm芯片。