上海芯鸿霖取得具有消磁功能的研磨液回收装置专利,将回收液体分为...

金融界2024年11月13日消息,国家知识产权局信息显示,上海芯鸿霖半导体设备有限公司取得一项名为“一种具有消磁功能的研磨液回收装置”的专利,授权公告号CN221984834U,申请日期为2024年1月。专利摘要显示,本实用新型涉及研磨液回收装置领域,公开了一种具有消磁功能的研磨液回收装置,包括保护壳,所述保护壳上端贯穿设置...

天津洙诺取得一种硅片研磨液进料机构专利,可根据需求调节研磨液流量

金融界2024年11月4日消息,国家知识产权局信息显示,天津洙诺科技有限公司取得一项名为“一种硅片研磨液进料机构”的专利,授权公告号CN221936438U,申请日期为2024年3月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种硅片研磨液进料机构,属于研磨液进料技术领域,该进料机构包括罐体,所述罐体顶端设置有进液口,所述罐体内壁...

河南闪耀取得一种单晶金刚石研磨液储存装置专利,实现储存外桶在...

金融界2024年10月9日消息,国家知识产权局信息显示,河南闪耀钻石有限公司取得一项名为“一种单晶金刚石研磨液储存装置”的专利,授权公告号CN221809999U,申请日期为2024年3月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种单晶金刚石研磨液储存装置,涉及研磨液技术领域,包括安装面、储存外桶和储存内桶,安装面上固定安装有两...

河南联合精密材料取得用于研磨液吨级制配的自动化设备专利,避免...

金融界2024年9月17日消息,天眼查知识产权信息显示,河南联合精密材料股份有限公司取得一项名为“一种用于研磨液吨级制配的自动化设备“,授权公告号CN221714070U,申请日期为2024年1月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种用于研磨液吨级制配的自动化设备,包括用于研磨液配制的桶体,桶体内连接有若干...

晶亦精微申请晶圆研磨装置及晶圆研磨方法专利,避免研磨液、晶圆...

便于直接阻挡研磨盘飞溅出的研磨液,避免研磨液、晶圆碎片对其他研磨腔室内的研磨过程造成影响,同时通过对挡板固定,并对挡板的顶部高度小于或等于转动部的顶部高度,以及令挡板的底部高度低于挡圈升起后的上沿高度,并高于或等于研磨头升起后的下沿高度,避免使用过程中对挡板进行升降,不会出现占用机台运行时间的现象,提高...

天岳先进申请金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法专利,能够实现...

金融界2024年6月13日消息,天眼查知识产权信息显示,山东天岳先进(49.700,1.93,4.04%)科技股份有限公司申请一项名为“一种金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法“,公开号CN202410579029.3,申请日期为2024年5月(www.e993.com)2024年11月18日。专利摘要显示,本申请公开了一种金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法,属于金刚石研磨技术领域。该研磨液...

科隆股份:氧化铈研磨液主要由氧化铈粉体、分散介质和助剂构成...

科隆股份：氧化铈研磨液主要由氧化铈粉体、分散介质和助剂构成，公司产品为氧化铈粉体每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：贵公司的球形纳米氧化铈和安集科技（688019）的cmp研磨液和氧化铈颗粒是否属于同一样的产品？科隆股份（300405.SZ）5月21日在投资者互动平台表示，氧化铈研磨液主要由氧化铈粉体、分散...

晶圆制造行业发展趋势预测:晶圆制造能力持续提升,晶圆产能稳步提升

内容概况:目前晶圆制造材料主要包括硅片、光刻胶及配套试剂、光掩膜、电子特气、湿电子化学品、溅射靶材、CMP研磨垫及研磨液等。其中硅片在晶圆制造材料中占比最大,占比约为35%,电子特气、光掩膜、光刻胶及其辅助材料、湿电子化学品占比分别为13%、12%、8%和7%。近年来,中国晶圆产能稳步增长。2023年,中国晶圆产...

江苏芯梦研发交付国内首台全自动精抛立式清洗机,工艺水准达19nm

与传统的清洗方式相比，全自动精抛立式清洗机具有更高的清洗精度和更低的能耗。其独特的设计使得清洗过程更加均匀、高效，同时减少了人工操作的干预，降低了生产过程中的不确定性和误差。设备能够实现以下工艺：●浸没上料：维持晶圆表面湿润状态，避免晶圆表面研磨液干燥后造成清洗困难；●双面刷洗：去除晶圆表面金属沾污...

上海新阳上半年扣非净利润8036.56万元,同比增长51.77%

在光刻胶及研磨液两大类产品方面,报告期内研发及市场推广均取得了进展与突破。其中,光刻胶项目研发进展顺利,I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升,满足客户的工艺需求,在超20家客户端进行测试验证,报告期内系列产品销量显著增加。ArF光刻胶研发顺利推进,浸没式光刻胶目前已有多款产品在国内多家晶圆...