稀释SC1溶液中硅表面颗粒的去除

通过高频声波在稀释的SC1溶液中增加颗粒去除效率可以解释如下:首先,根据化学比例,稀释的SC1溶液通常具有9.5至10.5之间的pH值,这些pH值需要达到足够的蚀刻速率以便进行颗粒去除,第二,声音通过液体的速度随着溶液密度的增加而增加,NH4OH和H2O2溶液的比重小于1,在相同的温度和压力下,稀释的SC1溶液比浓缩的SC1溶液密度大,与...

硼化物:通过化学剥离获得的具有有序金属空位的二维Mo4/3B2-x

研究人员报告了硼化物的实验实现,其形式为具有有序金属空位的单层2D钼硼化物片Mo4/3B2xTz(其中Tz为氟、氧或氢氧化物表面终端),通过在氢氟酸水溶液中对3D平面内化学有序(Mo2/3Y1/3)2AlB2和(Mo2/3Sc1/3)2AlB2中的铝和钇或钪原子进行选择性蚀刻产生。二维过渡金属硼化物的发现表明,未来可以通过层状化合...

北京日化协会副理事长单位北京桑普生物化学技术有限...

第四届全国香料香精化妆品标准化技术委员会(SAC/TC257)(以下简称“标委会”)第一次会议于2019年7月17日～19日在内蒙古呼和浩特市召开,该标委会分为香精香料分标委会(SAC/TC257/SC1)和化妆品分标委会(SAC/TC257/SC2)。国内知名防腐剂原料生产企业北京桑普生物化学技术有限公司(以下简称“桑普生化”)作为化妆...

累计融资超3000万美元,Guardian打造美国领先植保无人机运营公司

据了解，SC1采用了先进的传感器、控制器技术，其定位精度可达厘米级，可以自主完成复杂的飞防任务。此外，SC1还装有自动化的配药、灌装和充电系统，以减少种植者和化学药品的接触，安全性能高。同时，SC1无人机配备了地面增压装置和软件，帮助农民记录与跟踪施肥情况。SC1宽约4.5米，满载时重约270千克，可携带高达45...

使用标准湿法清洁从EUV掩模空白中去除纳米颗粒

在分段测试中,整个清洗过程分为三个独特的步骤,并针对该步骤中使用的相应化学品对加法器进行评估。这三个步骤是SPM化学,热去离子水冲洗和SC1化学过程。M7360测量的加法器图如图6所示.观察到最多的加法器是SPM化学过程,其次是热水过程和SC1化学过程。这些结果表明,SPM化学导致大多数加法器。

同期会议 |第四届中国实验室发展大会嘉宾阵容公布

董莲华,中国计量科学研究院研究员,核酸和蛋白质组学计量标准研究创新团队带头人,国际计量局化学与生物咨询委员会(CCQM)中国代表,CCQM核酸工作组(NAWG)委员,国际检验医学溯源联合会(JCTLM)质量体系评审组和核酸工作组委员,全国生物计量技术委员会(MTC20)秘书长,亚太区域计量组织青年科学家奖获得者,主持国家自然科学基金...

江苏华林科纳半导体---标准清洗槽中的质量参数的监控方法

化学清洗是一种行之有效的方法,用于去除晶圆表面的污染物。最常见的工艺是RCA清洗,通过两个连续的标准溶液清洗晶圆。标准清洁1SC1浴(或氨过氧化物混合物APM)由NH4OH和H2O2组成。标准清洁2SC2浴由盐酸和H2O2制成。有效清洗晶片的关键因素是清洗槽的停留时间和最佳化学浓度。对主要SC1/SC2槽成分的快速在线监测保证...

《华林科纳-半导体工艺》高阶的Pre-Gate清洁评估

在SC1化学中,颗粒通过NH4OH/H2O2混合物的连续氧化和蚀刻作用被去除,这些化学物质的比例是关键参数,因为它决定了颗粒所附着的表面层的化学溶解速率(欠蚀刻机理)。在优化稀SC1溶液的同时,NH4OH/H2O2的比例保持不变,这已被证明导致硅和二氧化硅的类似蚀刻行为高达0.25/1/500。在0,25/1/20的最佳工作点被明确地建立...

中药与天然药物2015—2020 年研究亮点评述

“中国十大医学进展”,在Nature、Science、NewEnglandJournalofMedicine、Lancet等国际顶级期刊发表了高水平的研究论文,本文梳理总结了这五年期间国内外科学家在国际著名期刊发表中药与天然药物相关的亮点学术成果,并对其在化学、药物资源、药理、制剂、新药开发等相关领域取得的重要进展进行了评述,以期追踪和报道中药...