中欣晶圆申请改善背封硅片背面晶点的工艺方法专利,解决了背封硅片...

专利摘要显示,本发明涉及一种改善背封硅片背面晶点的工艺方法,所属硅片加工技术领域,包括如下操作步骤:第一步:对硅片背面进行BSD加工,将含有SiO2的浆料通过压缩空气喷在硅片背面,在硅片背面产生背损伤,使之产生缺陷,进行外吸杂。第二步:完成BSD后进行SC1药液清洗,在SC1药液中以65℃温度下清洗5～10min。第三步:在65...

更高Voc HJT制绒清洗工艺如何优化?

首先使用SC1对原硅片表面进行清洗,主要去除硅片切割过程中引入的有机杂质、颗粒等污染。SC1药液,由于H2O2的作用,硅片表面有一层亲水性的自然氧化膜(SiO2),硅片表面和粒子之间可被清洗液浸透,由于硅片表面的自然氧化层与硅片表面的Si被NH4OH腐蚀,因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中,从而达到去除粒子的目的。在NH4...

盛美上海获批量Ultra C wb槽式湿法清洗设备采购订单

UltraCwb槽式湿法清洗设备的主要清洗应用包括炉管前清洗、RCA清洗、光阻去除、氧化层刻蚀、氮化硅去除，以及晶圆回收工艺中前段FEOL多晶硅/氧化硅层剥离去除，和后段BEOL金属层剥离去除。可以配置独立的多种化学液清洗（MCR）模块，按不同的工艺组合在该模块中依次使用多种清洗药液，如SC1、SC2、DHF、DIO3、DIW等。

华林科纳参展产品丨风囊泵、PFA材质PTFE膜折叠滤芯

(1)药液恒温控制:由风囊泵、循环溢流槽、阀门、过滤器、管件、热交换器,制冷机或加热器等组成温度控制系统。通过泵使药液循环并在热交换器内进行热交换用以实现药液的恒温控制。(2)药液的循环过滤:由风囊泵、循环溢流槽、阀门、过滤器、管件等组成药液的循环过滤系统。实现药液的循环过滤,均匀流场。保证工艺槽...

晶片清洗机台以及颗粒检测

晶片一般正面朝上,放在有多个紧固销且中间通N2的旋转平台上,当旋转平台处于最低层位置1,启动转动,化学喷头移到晶片上方,摆动喷洒药液,甩出的药液,流到收集槽1,有泵带动循环使用,喷完之后,化学喷头移走;平台上升到最高层位置3,去离子水喷头移到晶片上方,移动喷洒去离子水,同时转速提升,去离子水和药液的混合液...

盛美上海获碳化硅衬底清洗设备采购订单,预计三季度末发货

UltraCSiC碳化硅衬底清洗设备使用SC1(氨水/双氧水混合药液)、SC2(盐酸/双氧水混合药液)、DHF(稀氢氟酸)及其他化学进行清洗工艺,并可选配盛美上海自主研发的SmartMegasonix技术进一步优化清洗效果(www.e993.com)2024年11月1日。该设备兼容6英寸和8英寸,每小时可达70多片晶圆的产能,可避免薄且易碎的碳化硅衬底的碎片。(校对/赵碧莹)...