中欣晶圆申请硅抛光片的微粗糙度与氧化膜厚精确控制方法专利,具有...

专利摘要显示,本发明涉及一种硅抛光片的微粗糙度与氧化膜厚精确控制方法,所属硅片加工技术领域,包括如下操作步骤:第一步:硅抛光片在HF槽内进行清洗。第二步:采用溢流方式进行超纯水清洗。第三步:进行2次SC1溶液清洗。第四步:进行2次与SC1溶液清洗时间保持一致的超纯水清洗。第五步:在DHF槽内...

Ni201镍:构成、应用及优势全面解析|高温|材料|导电性|腐蚀性|导热...

耐腐蚀性Ni201镍在多种腐蚀环境中表现出色,特别是在还原和碱性环境中。例如,在强碱溶液中,Ni201可以抵抗氢氧化物的腐蚀,而在酸性环境和氧化性溶液中其耐蚀性能也十分出众。这使得Ni201镍成为化工行业中生产和处理碱性化学品时的重要材料。导热性和导电性镍材的导热性和电导率相对较高,这使得Ni201镍适用于高温环境...

广东省??清远市市场监督管理局关于2023年度工业产品质量...

SC20103231104682SC1深圳市计量质量检测研究院市级监督抽查321车用尿素溶液莞谊(文字加图片)---20kg2023/8/9---清远市日广石油有限公司清远市清城区凤城街道沙田社区旧居委会内的一楼佛山市莞谊汽车环保科技有限公司佛山市南海区丹灶镇西联新村开发区16号未发现不合格---SC20103231104722SC1...

中微公司申请晶圆处理技术专利,实时监测可以切换晶圆处理工作模式...

金融界2024年6月18日消息,天眼查知识产权信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“一种晶圆处理方法及用于晶圆处理的刻蚀-沉积一体设备“,公开号CN202211598096.7,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明公开了一种晶圆处理方法及用于晶圆处理的刻蚀??沉积一体设备。该方法包含:提供一等离子处理...

稀释SC1溶液中硅表面颗粒的去除

首先,根据化学比例,稀释的SC1溶液通常具有9.5至10.5之间的pH值,这些pH值需要达到足够的蚀刻速率以便进行颗粒去除,第二,声音通过液体的速度随着溶液密度的增加而增加,NH4OH和H2O2溶液的比重小于1,在相同的温度和压力下,稀释的SC1溶液比浓缩的SC1溶液密度大,与浓缩的SC1溶液相比,这导致了在稀释的SCl溶液中更高的传输...

广东省汕头市市场监管局:6款柴油和2款车用尿素不合格

中国质量新闻网讯11月17日,广东省汕头市市场监督管理局网站通报2021年度汕头市成品油等产品质量监督抽查结果(www.e993.com)2024年11月1日。本次对汕头市成品油销售企业销售的92#、95#、98#车用汽油、0#车用柴油及车用尿素进行监督抽查。共抽取成品油120款,车用尿素8款。经检验,有6款柴油和2款车用尿素不合格。

CD55和CD97:癌症治疗研究新兴靶点

该实验猫抗CD55抗体与人CD55蛋白(义翘神州)混合,该混合溶液被用作一抗。结果无蛋白条带,证明其抗体具有特异性。Kumar等人使用小鼠CD45和CD55单抗研究水疱性口炎病毒感染后CD45和CD55的表达情况,结果发现CD55表达水平不变,CD45降低。Wang等人开发了新型二价BV载体用于抗补体和人CD55蛋白持续转基因表达的检测,并用...

江苏华林科纳半导体---标准清洗槽中的质量参数的监控方法

最常见的工艺是RCA清洗,通过两个连续的标准溶液清洗晶圆。标准清洁1SC1浴(或氨过氧化物混合物APM)由NH4OH和H2O2组成。标准清洁2SC2浴由盐酸和H2O2制成。有效清洗晶片的关键因素是清洗槽的停留时间和最佳化学浓度。对主要SC1/SC2槽成分的快速在线监测保证了晶片产量的增加,同时降低了缺陷密度。

印刷氧化铝技术在黑硅PERC多晶太阳电池中的应用

Huang等[5]发现,使用HF→SC1→SC2→HF溶液清洗硅片后制备的太阳电池,较使用常规HCl→HF溶液清洗的开路电压提升了3～4mV。由于黑硅制绒已经使用SC1去除金属污染,因此背面抛光及清洗采用槽式设备依次经过KOH+H2O2→KOH+PS30→DI→HCl+H2O2(SC2)→DI→HCl+HF→DI→加热DI→N2烘干...