“光刻胶”最稀缺龙头,国内抛光技术NO.1,高端光刻胶已量产!

已完成ArF光刻胶部分型号的开发,首批ArF光刻胶的各项出货指标对标国际光刻胶大厂产品,已具备量产能力。容大感光包括PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶等。其中,PCB光刻胶所需原材料已经国产化,显示用及半导体光刻胶有部分原材料需要进口。南大光电在193nm浸入式光刻胶产品开发方面处于领先地位。目前...

华为新材料投资版图_陶瓷_公司_技术难度

该公司成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产,成为中国领先的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。博康光刻材料光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,受到光照后特性会发生改变,是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,技术壁垒高,具有纯度要求高、工艺复杂等特征,还需要相应光刻机...

徐州市促进中小企业专精特新发展 培育更多“小巨人”

徐州博康信息化学品有限公司的193纳米光刻胶单体生产填补了国内空白,并逐步建立起了自主可控的光刻胶供应链;徐州恒辉编织机械有限公司高端海工绳网编织系列成套装备与技术成功打破了国外技术垄断。像这样“低调”的专精特新企业,徐州还有很多。近年来,我市立足本地工业基础,以项目牵引提升中小企业发展能级,一批中小企业成为...

光刻机第一龙头,订单暴增500%,A股唯一对标阿麦斯的公司

ArF光刻胶,全称为193纳米氩氟化物光刻胶,是制造先进半导体芯片的关键材料之一,广泛应用于7纳米及以下工艺节点的集成电路制造中。长期以来,这一领域被国外少数几家巨头企业牢牢把控,技术壁垒高筑,国内企业难以触及。然而,面对国际形势的复杂多变和半导体产业的“卡脖子”困境,我国科技界与产业界携手并进,不断突破技术...

最像中际旭创的公司,光刻胶龙头,供货中芯长鑫,国产替代选择!

当制程发展到0.35μm以下时,g/i线光刻胶已经无法满足制程工艺的需求,于是出现了适用于248纳米波长光源的KrF光刻胶,和193纳米波长光源的ArF光刻胶,两者均是深紫外光刻胶。EUV(极紫外光)是目前最先进的光刻胶技术,适用波长为13.5nm的紫外光,可用于7nm以下的先进制程,目前仅有ASML集团掌握EUV光刻胶所对应的光刻...

光刻胶五大龙头,只有他得到华为和大基金双重认证!

EUV光刻胶高端产品,适用于7纳米以下的先进工艺(www.e993.com)2024年11月10日。国内厂商大多处于理论研究阶段,只有彤程新材(北京科华)的EUV光刻胶已通过02专项验收,含金量比较高。可以看到,综合产能规模、技术水平,综合实力最强的有四个企业:彤程新材(北京科华)>华懋科技(徐州博康)>晶瑞电材(苏州瑞红)>上海新阳。

日本若断供光刻胶,麒麟9000s芯片将无法制造,华为该如何应对?

根据适应的光线波长不同，光刻胶分为很多品种，主要有G线光刻胶（436nm）、I线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）、EUV光刻胶（13.5nm），分辨率逐步提升。这其中，用于生产10纳米以下芯片的EUV光刻胶，更是不容易予以突破，其技术壁垒极高，稍有一丝一毫的差错，就意味着前功尽...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

“套刻精度达到≤8nm”让氟化氩光刻机满足存储芯片光刻需求,那其整体性能同ASML光刻机相比,又处于怎样的地位呢?这里还是得从氟化氩光刻机官宣的参数谈起——波段193纳米,分辨率65纳米,套刻≤8纳米。光刻是指在特定波长光线的作用下,将设计在掩膜版上的集成电路图形转移到硅片表面的光刻胶上的技术工艺。通俗来...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

可是,激光直写,纳米压印……一个个方法试下来,有的很贵,有的很慢,还有的很容易报废,很难商业化,谁这么刻谁亏钱。直到,有人发现了一个非常有想象力的方法:曲线救国。用光刻胶。光刻胶什么是光刻胶?光刻胶,是一个对光挺敏感的东西。

光刻胶五大龙头,只有他得到大客户和大基金双重认证!

EUV光刻胶高端产品，适用于7纳米以下的先进工艺。国内厂商大多处于理论研究阶段，只有彤程新材（北京科华）的EUV光刻胶已通过02专项验收，含金量比较高。———可以看到，综合产能规模、技术水平，综合实力最强的有四个企业：彤程新材（北京科华）＞华懋科技（徐州博康）＞晶瑞电材（苏州瑞红）＞上海新阳。彤程新...