光刻胶产业深度报告!看懂光刻技术核心材料国产替代最新进展

从成本来看，树脂占光刻胶总成本的比重最大，以KrF光刻胶为例，树脂成本占比高达约75%，感光剂约为23%，溶剂约为2%。根据南大光电公告，在ArF光刻胶中，树脂以丙二醇甲醚醋酸酯为主，质量占比仅5%-10%，但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上。具体来看，树脂是光刻胶原材料的最核心成分，成本价值量占比最...

一文看懂AI多模态,国产光刻胶(附股)

最近，韩国媒体TheElec披露了一个有趣的消息：DongwooFine-Chem，这家日本住友化学在韩国的全资子公司，由于面临原材料和劳动力成本的不断攀升，决定调高其KrF和I-line光刻胶的售价，涨幅预计在10%到20%之间。这可不是个小数目啊！让我们简单聊聊光刻胶，这个听起来有点高大上的东西其实很重要。它就像是半导体...

一文看懂晶圆级封装

完成光刻胶涂覆和前烘后,接下来就需要进行曝光。通过照射,将掩模上的图案投射到晶圆表面的光刻胶上。由于正性光刻胶(PositivePR)在曝光后会软化,因此使用正性光刻胶时,需在掩模去除区开孔。负性光刻胶(NegativePR)在曝光后则会硬化,所以需在掩模保留区开孔。晶圆级封装通常采用掩模对准曝光机(MaskAligner)...

华为新机秒售!光刻机巨头阿麦斯股价暴跌!国产光刻胶研发成功!

光刻胶是光刻工艺的重要组成部分，用于制造芯片中的微细结构。而这一全新的"双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶"系统是一种新型材料，可用于DUV（深紫外）光刻机，未来有望应用于EUV（极紫外）光刻机。这一突破意味着中国在光刻机领域的研究和创新取得了重大进展，引起了整个行业的瞩目。可能的逻辑关系...

A股仅此一家!AI最肥的鱼,市占率70%国内第一,国产替代佼佼者!

而在未来,电子树脂行业的竞争格局也基本围绕电子级PPO树脂这种高速树脂展开。目前国内已有不少企业布局了电子级PPO树脂产品。其中圣泉集团在2019年开始研发PPO产品,2020年就完成了中试并取得了华为的认证,目前具有1300吨PPO产能,成为目前国内最大的PCB基板材料用电子树脂供应商,市占率达70%。同时公司在光刻胶用线...

科普| 一文了解光刻胶

作为半导体制造的核心流程,光刻工艺对于芯片制造来说至关重要(www.e993.com)2024年11月26日。光刻胶是光刻工艺最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻精度至关重要。因此,光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠,是半导体产业最关键的材料。近年来,面对寡头垄断格局,中国半导体产业掀起了一股国产化替代的浪潮。本文将全面介绍什么是光刻胶?光刻胶国产化进...

深度分析!一文带你看半导体光刻胶国产化之路“难”在何处?

半导体光刻胶属于光刻胶高端产品,受技术限制,当前,我国半导体光刻胶需求主要由外资企业来满足,2020年,外资企业的市场份额达71%。从不同光刻胶产品的自给率来看,目前适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶的自给率约为20%,适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%,而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口,...

46页报告一文看懂光刻胶,大基金重磅加码本土企业奋起直追

中信建投智东西在半导体制造领域,上游微电子材料和设备是支撑该行业的关键部分。上游微电子材料包括半导体制造过程中用到的所有化学材料,包括硅片、光刻胶及辅助材料

高壁垒&高价值量,一文梳理半导体材料皇冠上的明珠——光刻胶

1.光刻胶:半导体材料皇冠上的明珠光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠。全球半导体技术持续进步背后是光刻工艺持续迭代驱动的摩尔定律,缩短曝光波长主要是通过在光刻机等核心设备和光刻胶等核心材料的不断进步来实现。迄今为止,规模集成电路均采用光刻技术进行加工,光刻的线宽极限和精度直接决定了集成路的集成度、可...

半导体最强产业框架思维导图,一文看懂全产业链结构应用!

光刻胶企业:全球:TOK、JSR、杜邦、住友化学、东进半导体、富士胶片中国:晶瑞股份、南大光电、上海新阳、上海芯刻微2.1.6湿电子化学品湿电子化学品指为微电子、光电子湿法工艺(主要包括湿法刻蚀、清洗、显影、互联等)制程中使用的各种电子化工材料。