多氟多新材料股份有限公司2023年年度报告摘要

电子级硅烷(纯度达到99.9999%,即6N级)主要应用于半导体芯片、TFT液晶显示器、光伏行业、高端制造业等战略新兴产业领域,是化学气相沉积(CVD)的硅原料,现具备年产4000吨产能,中宁硅业的电子级硅烷是国家重点新产品。电子特气被称为“晶圆制造之血液”,是半导体产业典型的“卡脖子”材料,国产替代性强,公司电子级硅烷...

皮肤碰到氟硅酸了怎么办?氟硅酸的性质及安全防护

[用途]制取氟硅酸钠、氟硅酸钾、氟硅酸锌、氟硅酸镁、氟硅酸钙、氟硅酸铵、冰晶石及其他氟硅酸盐和四氟化硅的基本原料。用于木材防腐、啤酒消毒、金属电镀和瓷品加工等。还用于制造涂料、水泥硬化剂等。[简要制法]①工业上主要采用硅石粉酸解法,是将硅石粉溶解于氢氟酸后经酸解、过滤、净化而制得。②将石英...

氢氟酸你了解多少?氢氟酸的性能和用途

属中等强度的无机酸,腐蚀性极强,能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。也能与金属、金属氧化物及氢氧化物作用生成各种盐类,但作用不及盐酸那样剧烈。金、铂、铅、石蜡及某些塑料等与它不起作用,故可制作容器。氟化氢气体很易聚合,形成(HF)2(HF)3···等链形分子,在液态时,聚合度增大。需贮存于铅制、...

二氧化硅的基本性质以及合成方法

气态氟化氢跟二氧化硅反应生成气态四氟化硅。跟热的浓强碱溶液或熔化的碱反应生成硅酸盐和水。跟多种金属氧化物在温下反应生成硅酸盐。用于制石英玻璃、光学仪器、化学器皿、普通玻璃、耐火材料、光导纤维,陶瓷等。二氧化硅的性质不活泼,它不与除氟、氟化氢以外的卤素、卤化氢以及硫酸、硝酸、氯酸作用(热浓磷酸除外)...

半导体材料之电子特气深度报告:晶圆制造之血液

三氟化氮(NF3)三氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积(CVD)装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合,用作等离子体工艺的蚀刻气体,例如,NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蚀刻;NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蚀刻,也用于NbSi2的蚀刻。

中央第三环境保护督察组第二十九批转办案件办理情况(上)_凤凰资讯

氟硅酸钠灼热(300℃以上)后,分解生成氟化钠和四氟化硅,不产生氟气(www.e993.com)2024年11月24日。企业配套建设了脱硫、除尘等治理设施,废气经处理后,可达标排放。经勘查,该企业附近没有居民,周边是草原与农田,草原植被及农田农作物生长状态未见异常。该企业院内种有绿化树木、花草,均长势良好,未发现因企业生产影响植物生长的情况。该企业每年...

中央第三环境保护督察组第二十九批转办案件办理情况(上)

氟硅酸钠灼热(300℃以上)后,分解生成氟化钠和四氟化硅,不产生氟气。企业配套建设了脱硫、除尘等治理设施,废气经处理后,可达标排放。经勘查,该企业附近没有居民,周边是草原与农田,草原植被及农田农作物生长状态未见异常。该企业院内种有绿化树木、花草,均长势良好,未发现因企业生产影响植物生长的情况。该企业每年按...

第五届“6·18”国外电子信息产业项目成果

四氟化硅溶解在碱性元素氟化盐共熔液中,反应如下:400～500℃(SiF4,O2)(g)+KF(I)K2SiF6(I)+O2(g)(4)400～500℃(SiF4,O2)(g)+NaF(I)Na2SiF6(I)+O2(g)(5)气态氧被移除到卫生清除系统。络盐以离子状态游离:500℃K2SiF62-(Na2SiF6)2K1+(2Na1+)+SiF62-...

认识二氧化硅|玻璃|熔点|晶体|氢氟酸_网易订阅

所以性质决定用途,用途反映性质。4,化学性质(1)二氧化硅的化学性质很不活泼,酸中只有氢氟酸(HF)能与之反应生成四氟化硅和水。玻璃中含有二氧化硅,可以用氢氟酸刻蚀玻璃。(2)二氧化硅是酸性氧化物,可与碱性氧化物和碱反应生成盐和水。实验室中装盛氢氧化钠的试剂瓶用橡皮塞或软木塞而不用玻璃塞(玻璃中含有...