N-甲基吡咯烷酮NMP872-50-4的基本属性、主要用途
10.折射率:1.466(20°C)NMP的主要用途:1.化工领域:作为有机溶剂,广泛用于聚合物溶液的制备、树脂生产和涂料配方等。2.电子工业:在电池制造、半导体工艺和涂覆电路板等方面有重要应用。3.医药工业:用于药物合成、药物传递系统等。4.纺织工业:作为染料和纺织助剂的溶剂。5.农业领域:用于农药配方。
没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?
以193nm光源的浸润式光刻机为例,其k1为0.28,水的折射率n为1.44,sinθ为0.93,其HalfPitch=(0.28×193)/(1.44×0.93)=54.04/1.3392≈40nm,即分辨率为40nm。所以,如果要提高光刻机的分辨率,可以调整公式中的变量,扩大分母或者缩小分子,对应有四种可能性:即增加聚光角度,提升sinθ、提高介质的折射率n、降低k1系...
中科院福建物构所「国家杰青」团队,最新Nature Photonics!
同时,他们提取了与波长相关的折射率、消光系数、双折射和线性二向色性(图3d-g)。这些结果与第一原理计算一致。图3.C3H8N6I6·3H2O的介电和光学各向异性C3H8N6I6·3H2O的双折射与最双折射的二维材料MoS2相当,比BaTiS3大数倍,甚至比商业和其他双折射晶体大约一个数量级,如方解石、石英、TiO2和α-BaB2O...
...严清峰课题组Angew:准一维范德华晶体纤维红磷ab平面内的巨双折射
双折射是指一束光波入射到光学非均质体时,分解为两束偏振方向互相垂直的线偏振光的现象,两束光线折射率的最大差值(Δn)即为双折射率。双折射晶体是制备偏振器、光隔离器、环形器以及相位延迟器等光电调制器件的关键材料,被广泛的应用于激光偏光技术、光通讯、偏光信息处理、高精度光学器件等领域。双折射晶体的双折...
日久光电获得实用新型专利授权:“半透半反膜”
一侧面和/或第二侧面上的涂布层;半透半反层为设置于硬化层上的磁控溅射镀膜层,半透半反层包括多层交替层叠的高折射率镀膜层和低折射率镀膜层,半透半反层的最上层和最下层均为高折射率镀膜层;高折射率镀膜层的层数为m,低折射率镀膜层的层数为n,m和n同时满足下述条件:m>n,2≤m≤4,1≤n≤3,且m??n=...
芯片内部为什么能这么小?100多亿个晶体管是怎么装进去的?
数值孔径(n为折射率)|图源Searchmedia-WikimediaCommons瑞利判据常用来评价成像质量,而光刻系统是在光刻胶中成像的(www.e993.com)2024年10月17日。光刻胶是一种高对比度的成像介质,在某些曝光条件下,虽然光学分辨率已经达到了瑞利判据的分辨极限以下,但光刻胶仍然可以呈现较好的成像结果,实现加工的目标。
椭圆偏光法是什么?它是如何研究离子注入的损伤和退火效应的?
图1是No.32样品(150keV,1016/cm2注入)的结果.主要是n分布;值精度较差,示以虚线.从本工作结果看,损伤层中折射率n与完整硅晶体的值不同,变大了,但该层的n的变化形状近似一个平台.Adams等、罗晋生等的结果却显出尖峰.离子注入所引起的损伤的特性,与注入离子种类(轻离子或重离子)和注入剂量有很大关系....
真空中波长为λ的单色光,在折射率为n的透明介质中,从A点沿某
真空中波长为λ的单色光,在折射率为n的透明介质中,从A点沿某,真空中波长为λ的单色光,在折射率为n的透明介质中,从A点沿某一路径传播到B点,已知A、B两点的相位差为3π,则此路径AB的光程为()。A、λB、1.5λC、2λD、1.5λ查看答案解析正确答案B答案解析自考3
折射率可以是复数和负数吗
是一个描述光在真空的传播速度与介质中传播速度的比值,它是光学中一个非常重要的概念。折射率用符号n表示,计算公式为:n=c/v,其中c是光在真空中的速度,约为3×10??m/s,v是光在介质中的速度。不同的介质有不同的折射率,比如水的折射率是1.33,表示光在水中的速度是真空中的1/1.33倍。
非均匀折射率场中光传输现象研究
n=1.77×10-5c+1.328(8)对于不同高度的实物,在高度为1cm处观察,可以分别得到图3所示的几种光路图与相应蜃景模拟图。类似地,我们假设折射率仅沿极轴变化,那么在极坐标系中广义坐标q为r,广义时间t为θ。代入泛函,得到其中,...