深耕PVD镀膜材料二十载,阿石创:技术延伸,PET铜箔业务有望崛起
经过多年发展,PVD技术已成为目前主流镀膜方法,主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。真空蒸发镀膜工艺的优势在于速度快,适用于小尺寸基板的镀膜。真空蒸发镀膜是指在真空条件下,利用膜材加热装置(称为蒸发源)的热能,通过加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面的一种沉积技术。被蒸发的物质是用真空蒸发镀膜法沉积薄膜材...
MEMS代工|光刻电镀刻蚀镀膜电子束直写
AFM、台阶仪、Raman光谱、SEM、FIB、共聚焦显微镜、白光干涉仪、红外热成像仪、FEMTO—TOOLS微纳力学测试仪、超高速相机、3D多普勒激光测振仪、DC/RF探针台(60GHZ)、网络分析仪(60GHz)、半导体分析仪、阻抗分析仪以及高精度电学原表等·器件后道封装设备晶圆减薄、CMP抛光、晶圆键合、贴片机、划片机、打线机、固...
钙钛矿设备行业深度报告:光伏0~1的颠覆性技术
1)蒸发镀膜:真空条件下,通过电阻加热、电子束轰击等方法使镀料靶材受热蒸发,靶材分子逸出,从镀料迁移到基片表面,沉积形成薄膜。2)溅射镀膜:真空条件下,向装置内充入氩气(Ar),高电压下氩气辉光放电,电离的氩离子在电场力作用下加速轰击放置在阴极的靶材,被溅射出的靶材分子沉积在基片表面形成薄膜。3)离子...
群贤毕至!第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开
已成为先进电子束光刻的必备品;蒙特卡罗模拟软件可以进行电子束光刻建模与校正中电子分布的MC模拟,可完成过程校准、PSF可视化、提取和管理;3D光刻模拟和OPC软件覆盖了接触式光刻(掩模对准器)和投影光刻(步进器/扫描仪),电子束光刻和激光直写光刻(海德堡仪器激光系统);SEM图像分析与计量是一款可用于基于...
美科学家采用气相沉积技术 将烧结砖升级“超级电容器储能装置”
常用的评价指标有储能密度、储能功率、蓄能效率以及储能价格、对环境的影响等。能源储存系统可以储存多余的热能、动能、电能、位能、化学能等,改变能量的输出容量、输出地点、输出时间等。气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程,改变工件表面成分,在表面形成具有特殊性能(例如超硬耐磨层或具有特殊的光学、电学...
一文看懂:芯片的一生-虎嗅网
芯片前期工艺包括光刻、干蚀刻、湿蚀刻、化学气相沉积、物理气相沉积、等离子冲洗、湿洗、热处理、电镀处理、化学表面处理和机械表面处理等,其中多个工艺会重复使用,非常复杂(www.e993.com)2024年10月26日。每个前期工艺都对应着相应设备,包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入设备、热处理设备(氧化退火设备)、化学机械平摊(CMP)设...
超千亿市场进入量产元年!——梳理国内复合集流体产业链
广东振华科技始于1992年,是一家集研发、生产、销售、服务为一体的综合型真空镀膜设备厂家,可提供连续式镀膜生产线、磁控溅射镀膜设备、阴极电弧离子镀膜设备、硬质涂层镀膜设备、精密电子束蒸发镀膜设备、卷绕式镀膜设备、真空等离子清洗设备等真空表面处理设备。
挑战与机遇并存,系统性拆解半导体设备国产化机会
离子注入机主要有两大技术参数指标:??剂量:离子剂量是单位面积硅片表面注入的离子数。当离子注入机中正杂质离子形成离子束,它的流量被称为离子束电流,单位是mA。离子束电流越大,单位时间内注入的粒子数越多。大束流有助于提升产量,但高均匀性很难达成。
从砂到芯:芯片的一生_腾讯新闻
芯片前期工艺包括光刻、干蚀刻、湿蚀刻、化学气相沉积、物理气相沉积、等离子冲洗、湿洗、热处理、电镀处理、化学表面处理和机械表面处理等,其中多个工艺会重复使用,非常复杂。每个前期工艺都对应着相应设备,包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入设备、热处理设备(氧化退火设备)、化学机械平摊(CMP)设...
我国集成电路设备的全球竞争力、赶超困境与政策建议
在前道15类关键设备中,日本企业平均市场份额为38%,在6类产品中市场份额超过40%,在电子束、涂布显影设备市场份额超过90%;在后道9类关键设备中,日本企业平均市场份额为41%,在划片、成型、探针的市场份额都超过50%。(三)全球领先企业概况集成电路设备行业兼具知识密集、人才密集、技术密集和研发强度高等特征,大...