复旦大学教授:国产光刻机落后ASML20年,这一说法是否准确?

在这样的时代背景下，我们不禁要问：既然中国已经实现了65nm光刻机的商业化应用，那么距离28nm光刻机商用的日子还有多远？又需要多久，我们才能自豪地宣布制造出了EUV光刻机？是3年的跨越？5年的奋进？还是10年的磨砺？凭借着令人瞩目的“中国速度”，国产光刻机的研发步伐显然要比ASML来得更加迅捷。或许就在不久...

不甘落后!中国国产光刻机官宣后,美国怒砸30亿赶超新能源汽车

2023年，中国大陆的半导体市场规模差不多有342亿美元呢，在全球市场里占了30.3%的份额。这已经是连续四年成为全球最大的半导体市场啦。单说光刻机设备这一项，2023年中国进口总额就达到了87.4亿美元，这里面83%都是从荷兰进口的。阿斯麦的第三大市场是中国大陆，去年还上升到了第二呢，这可是在面临各种制裁和限...

荷兰光刻机限令刚出,中国卡点官宣新技术!落后ASML水平20年?

他们认为,中国目前光刻机的套刻精度在8纳米之下,这个技术水平根本与荷兰没法比,毕竟荷兰ASML公司在20年之前就达到了这一技术水平,他们认为中国此次完全是自嗨行为。其实看一个国家在某一领域的技术水平,并不能放在同一时间维度上来看,毕竟荷兰ASML公司起步非常早,技术水平必然全球领先。换句话说荷兰ASML也不是最早开...

实话实说,国产光刻机虽有进步,但落后ASML还有20年

所以,从这一点来看的话,其实我们落后ASML起码20年,因为20年前的ASML,已经有了浸润式光刻机,对方一边在生产浸润式,也一边在生产干式光刻机,而我们呢,还在干式光刻机上努力,浸润式还没有实现。所以说,大家先别这么高兴,这台光刻机虽然也是一个进步,但实际上路还很漫长,我们的提升空间还非常大,还远不到兴奋...

国产光刻机,虽落后ASML有20年,但离浸润式仅一步之遥了

所以大家认为,如果从实际的水平,研发进度来看,国产光刻机,落后ASML应该有20年左右,这个是比较客观的事实。当然,理论上来分析确实如此,但是大家忽略了两点:1、这台光刻机,采用的是全国产供应链,这就是巨大的进步。要知道ASML之所以这么厉害,是因为它和将全球的供应链绑上了自己的战车,很多的核心供应链,更是和...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

直接说答案,从性能参数来看,大概相当于ASML的XT1460k(www.e993.com)2024年11月2日。1460k不知道什么时候生产的,但是1470是2020年的产品。所以有人说不如ASML20年前的技术是不对的。如果对标XT1460k的话,那么对应的最小制程估计就是65nm。但你说,这光刻机只能生产65nm的芯片么?也不尽然。套刻两下,说不定就能做更高制程的芯片了。而...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

美欧封锁成为中国自主创新的催化剂 国产光刻机破局而出

面对封锁,中国并未屈服,反倒是将其转化为了技术飞跃的动力。今年9月,工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中,国产光刻机的身影赫然在目,包括110nm的氟化氪光刻机与65nm的氟化氩光刻机,这一成就颠覆了外界对中国光刻机制造能力的认知,标志着从“造不出”到成功量产的巨大转折。

新型国产光刻机问世,“正能量”谣言满天飞,结果仍然落后18年

这意味着,从时间线上来看,国产SSA600光刻机已经落后西方近20年。而现在,经过6年的技术沉淀和改良,我们推出的ArFi光刻机,虽然在一定程度上缩小了与西方的差距,但仍然落后西方18年。这样的结果,无疑让人感到有些失望和无奈。毕竟,光刻机作为芯片制造的核心设备,其技术水平的高低直接决定了芯片的性能和功耗。

国产光刻机虽落后ASML 20年,但距离浸润式技术仅一步之遥

国产光刻机虽落后ASML20年，但距离浸润式技术仅一步之遥国产光刻机虽然比ASML落后约20年，但实际上已经接近浸润式光刻技术的边缘。在现代芯片制造中，光刻技术至关重要，而光刻机是这一技术的核心，目前全球仅有ASML、尼康、佳能及上海微电子四家主要厂商。ASML凭借超过85%的市场份额和独占的EUV光刻机，巩固...