大事件!国产EUV光刻机最新进展来了!

大事件！国产EUV光刻机最新进展来了！要说国产半导体产业中最让人“牵肠挂肚”的无疑就是光刻机了；终于国产EUV光刻机的最新进展来了。9月10日国家专利网站公布了上海微电子一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，专利申请日期为2023年3月9日，申请号为CN202310226636.7。据了解，此项专利主要...

美国封锁之下,国产光刻机逆境突围,荷兰媒体也坐不住了!

不过结果还让他们失望了，就在今年9月，工信部亮相的氟化氩光刻机，直接打了西方和伪专家的脸。最主要的是，这款光刻机所有零件都是国产的，不用担心看国外的脸色行事了！虽说和EUV光刻机比起来，可能还有点差距，但这足够咱们量产常规芯片了。结果这美国网友急了，在各大论坛发帖谩骂，说咱们没经过他们的允许就...

光刻机唯一掌握EUV光刻机技术,供货华为,中科院强势抢筹

现在的情况是这样的虽然距离量产还有一段路要走，但方向已经明确了。就像当年的"两弹一星"，虽然起步晚，但只要有决心，就没有过不去的坎。中科院的专家们说，未来几年内，国产EUV光刻机很可能就会问世。这对华为来说，简直是久等的好消息。大家都知道，华为的麒麟芯片原来用的是7纳米工艺，在5G时代可是响当当的...

今年5nm,2026年2nm,EUV光刻机搅

嘿哟,就在这阵子,EUV光刻机好像要有个捣乱的家伙要冒出来啦!今年能搞5nm,到2026年还能整2nm,可算要量产喽!一、EUV光刻机搅局者大伙都知道,芯片生产制造那可是复杂得要命,光刻工艺在里头更是关键中的关键!嘿哟,这种工艺呀,其实就是把光刻板上头的那些几何图形,给挪到晶圆表面的光刻胶上去,...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

对此,有业内称,NSR-S636E可以直接光刻加工量产型5nm制程芯片,这个说法尽管有些夸张,但足见其在浸润式DUV光刻机市场的潜在实力。更为可贵的是,NSR-S636E是我们的企业和媒体经常挂在嘴边上的完全国产。例如其光源使用的是日本gigaphoton公司(注:它是日本最大工程机械企业小松旗下的半导体企业,在光刻设备的DUV光源...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国自己的7nm光刻机,是不是真的造出来了?起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》(www.e993.com)2024年12月19日。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都没有,就突然静悄悄地官宣了中国自己的新光刻机吗?

台积电大举拉货EUV光刻机

高数值孔径EUV光刻机受关注去年12月,ASML向英特尔交付了业界首台数值孔径达到0.55的EUV光刻设备TwinscanEXE:5000,目前,该设备主要用于开发目的,并使该公司的客户熟悉新技术及其功能。高数值孔径设备的商业使用计划在2025年及以后进行。英特尔宣布计划从2025年开始采用ASML的高数值孔径TwinscanEXE扫描仪进行大批量生产...

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

不得不承认的是,由于我国本土晶圆厂无法采购到ASML的EUV光刻机(2024年起NXT:2000i及更高端型号的Ari光刻机进口也受到限制),将逻辑制程推进到7nm或更先讲制程而临巨大挑战,因此过去国内逻辑制程的扩产主要围绕28nm左右的成熟制程。就远期前景和先进制程而言,EUV光刻机的缺失,意味着国内晶圆厂需要依赖多重曝光技术...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

好好好,国产光刻机终于官宣量产了。这回可不是搜集信息之后的推理,而是正八经儿工信部文件公布的信息。2024年9月2日,工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知。在这份文件当中,首次出现了氟化氪KrF和氟化氩ArF光刻机。但要注意的是,这台ArF光刻机可能不是大家想象当中的那台设备。

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

2024年9月9日,工信部印发了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》通知,在文件列表中包含国产氟化氪(KrF)光刻机,和氟化氩(ArF)光刻机的内容。9月10日,SMEE(上海微电子)公开一项关于极紫外(EUV)辐射发生装置及光刻设备的新专利。今年以来,以国产光刻机为代表的国产先进半导体前道设备消息频发,其产业...