国产氟化氩光刻机公开,回击荷兰新禁令,相当于ASML20年前水平

看来这款光刻机与荷兰ASML目前最为先进的EUV光刻机产品还有着不小的差距。如果说真的要和荷兰方面的企业来进行对比，那么这款光刻机的性能与荷兰ASML的设备技术实际差距超过18年左右，相当于这家企业20年前的水平。就此来看，国产光刻机与荷兰光刻机之间的技术实力差距还是相当悬殊，尚且无法与全球最为顶尖的技术...

重磅!国产DUV光刻机研制成功!美国啥反应?

在美国施压荷兰ASML要求其于9月10日暂停对中国销售光刻机的维护工作后，9月14日中国宣布中端氟化氰光刻机和高端氟化氩光刻机正式投产。依托这一技术，大量国内二手光刻机能实现7nm（相当于台积电5nm），而国产第二代duv设备则可达到5nm（相当于台积电3nm）。如果一切顺利，明年国产euv有望实现3nm量产，这意味着明...

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

随着时间推移和技术进步，光刻机的各项核心技术指标显著提升。例如，从最早的I线光刻机开始，其光学分辨率从最初的350纳米逐步进化至110纳米、80纳米、65纳米、57纳米、甚至到达38纳米（DUV光刻机的极限）。与此同时，套刻精度也相应从20纳米提高至1.3纳米、1.5纳米及1.1纳米。值得注意的是，不同的光刻机...

EUV光刻机没人买,ASML全靠中国市场救命

在无法对中国销售先进光刻机的情况下,2纳米EUV光刻机已成为ASML寄予厚望的产品,不过可能购买这款光刻机的三大客户态度各有不同,Intel无疑是最积极的,还在美国的压力下,ASML将今年量产的10台2纳米EUV光刻机中的6台交给了Intel。三星和台积电则态度颇为微妙,台积电的态度最不积极,有传言说台积电继续以现有的第一...

项立刚:光刻机这颗明珠很快要变成玻璃珠了!中国已拿下光刻机

可以说,中国自主研发的光刻机已在很多领域取得了重要突破,根据中国半导体行业协会的数据,在ArF和KrF光刻机领域,国产化率已经很高了。在28纳米及以上制程的I-line光刻机上,国产替代已初见成效;而在14纳米及以下先进制程,多家企业的技术路线图已渐趋清晰。

3年前ASML曾断言,中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了

不过,在高端EUV技术被ASML垄断的大背景下,上海微电子依旧靠自主研发成功实现了90纳米光刻机的自产自销,且还将继续向14纳米甚至7纳米的光刻机发起冲锋(www.e993.com)2024年11月1日。除去瓶颈处的EUV技术,我国在其他不同波长的光刻机技术上早已达成了预言,让大部分国家叹为观止望尘莫及。

技术落后,半年腰斩,如今再度亏损,不卖中国的美芯陷入绝境!

为了推动美国再度取得先进工艺技术优势,美国以大棒兼胡萝卜,迫使三星和台积电赴美设厂,不过美国的最终目的还是帮助Intel重夺先进工艺优势,今年美国更是迫使光刻机巨头将量产的10台2纳米EUV光刻机中的6台交给Intel,借此帮助Intel在明年实现Intel18A工艺,从而一举赶超台积电。

极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效

日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。极紫外线光刻机(ExtremeUltra-violet),又通常被称为EUV光刻机,它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。

EUV光刻,日本多路出击

日本TOPPAN陆续将高端技术转移到上海厂,该厂在2015年导入90纳米的光掩模技术设备,并在2018年开始生产65/55纳米技术,之后在2018年进入逻辑制程28/14纳米,以及DRAM的1X/1Y制程的光掩模生产。除了投入高端技术工艺,日本TOPPAN也在数年前就投入EUV光刻机用的光掩模,通过高能量、波长短的光源,将电路图案转印到晶圆,EU...

上海:14纳米芯片规模量产,90纳米光刻机等实现突破

“14纳米先进工艺规模实现量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破;全市集成电路产业规模达到2500亿元,约占全国25%,集聚重点企业超过1000家,吸引了全国40%的集成电路人才。”