全都反水了!ASML、荷兰光刻机供应商相继宣布,外媒:事情闹大了

据业内专家分析："ASML此次市值暴跌，暴露出全球半导体产业链过度集中的风险。这种风险不仅威胁到企业自身的发展，更影响着整个产业的稳定。"在这个过程中，最引人注目的是中国企业的表现。上海微电子成功研发出28纳米沉浸式光刻机，标志着中国在这一领域取得了实质性突破。这不仅是技术进步，更是产业实力的体现。针...

中国芯片光刻机自主研发成功,打破国际封锁!

近日，“国产光刻机交付”的消息广为传播，各大社交平台热议。这不仅是一则科技新闻，更是关乎国家命运的重要事件。中国首台自主研发的28纳米光刻机已投入使用，标志着中国芯片产业的重大进展。长期以来，我们在关键技术上受制于人，如今终于取得突破。光刻机是芯片制造的核心设备，被誉为芯片制造的灵魂。它将电路图...

半导体领域“自主创新”成果进入“集中落地期”,国产“光刻胶”有...

展望后市,光大证券指出,距此前官方披露“国产28纳米光刻机”相关消息不久,国产光刻胶也来了,相关领域“自主创新”成果进入“集中落地期”,不仅将带动相关产业链高质量发展,甚至可能成为加速整个实体经济产业升级的“关键节点”。具体到A股市场,在股市整体休整阶段,类似“光刻胶/光刻机”这样具有“自主创新”概念,且...

国产光刻机重大突破!28纳米芯片全流程国产化,龙头厂商梳理

想象一下,这台设备需要用极紫外光,将复杂的电路结构“刻”在芯片上,而每一道光都要精准到纳米级别,这对光源的稳定性和精度提出了极高要求。近年来,国产光刻机在光源系统上的突破,使得国内企业在高端设备制造上开始展现出新的实力。国产光刻机的未来展望然而,尽管技术进步显著,国产光刻机依然面临不少挑战。

【转单】英伟达7纳米转单三星代工,台积电股价重挫 ;ASML研发新代...

4.光刻机领域王者ASML研发新代机型,2025年1纳米工艺可期5.切入大陆厂供应体系加持,全新Q2营收季增31.2%6.南亚科第2季营收回温,预期下半年优于上半年1.NVIDIA7纳米转单三星,台积电股价重挫芯科技消息(文/罗伊)昨(2)日晚间传出,NVIDIA韩国区主管柳永军(YooEung-Joon)首度证实,下一代7纳米GPU订单将改由...

光刻机巨头成弃子!阿斯麦水逆:市值两天蒸发5300亿元,自食恶果

上海微电子装备集团成功研发28纳米沉浸式光刻机，华为推出搭载自研麒麟9000s芯片的新品(www.e993.com)2024年11月2日。数据显示，今年第二季度中国大陆半导体设备出货量同比增长62%，远超全球平均水平。展望未来，全球半导体产业格局或将迎来重大转折。一位资深产业观察家告诉本人："技术封锁最终可能适得其反，反而加速了技术创新的进程。"站在历史...

28台,“中标”结果出炉!国产光刻设备又传来好消息

有消息传出,在本周杭州积海半导体新增设备招标89台、上海积塔新增设备招标7台以及华虹宏力、华虹半导体等企业的招标当中,中国光刻机制造企业累计中标了28台相关的设备,其中就包括了光刻机、蚀刻机以及一些其他的清洗设备、工艺检查设备等。国产光刻设备再度突破,新消息传出...

7纳米EUV光刻机又迭代了

其实呀,“28纳米光刻机”只是20年前的DUV浸没式光刻机的最初版本。目前,这个版本的DUV光刻机已经迭代到NXT:2100了。而第一代EUV光刻机,也就是我们常说的“7纳米EUV光刻机”,在量产阶段也已经迭代了很多型号了,包括:NXE:3100,NXE:3300,NXE:3400,NXE:3600。而3月12日刚刚在晶圆厂完成安装的NXE:380...

纳米压印能否打破EUV光刻机垄断?佳能需要先兑现今年量产的诺言

半导体设备公司芯澈半导体创始人彭博方关注纳米压印技术在半导体领域的进展已有十多年。彭博方曾在上海微电子、ASML任职研发光刻及套刻测量技术近十年,在复旦大学任职期间又从事过纳米压印及化合物半导体检测技术的研究。在近期采访中,他对今年佳能量产的纳米压印光刻机仍抱持怀疑观望。

【晒晒咱的国之重器41】离子注入机:二十八纳米工艺实现全覆盖

这就要说到当前芯片应用领域中覆盖面最广的制程——28纳米,这也是离子注入机必须打通的工艺节点。“28纳米是注入工序中需求最多及生命周期最长的节点,对注入角度、注入剂量精度有严格要求。注入期间,设备软硬件要紧密配合,需根据不同注入区域实时对注入剂量进行调整,稍有偏颇,良率将达不到产线要求。”李进说。