功耗只有十分之一!佳能首台新型纳米压印光刻机交付

功耗只有十分之一!佳能首台新型纳米压印光刻机交付传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案,佳能的这款新型纳米压印光刻机是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。佳能表示,相较于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造,纳米压印设备的构造更为简单...

佳能纳米压印光刻机迎来重大突破!

在TIE上,佳能的FPA-1200NZ2C纳米压印光刻系统将用于该联盟中的芯片制造商的研发——这是一件大事,因为目前英特尔、恩智浦和三星使用DUV和EUV(恩智浦除外)光刻技术来制造芯片。通过研究纳米压印光刻技术的能力,这些公司可能会也可能不会在其晶圆厂采用NIL技术。据日经新闻报道,佳能似乎对这些试验寄予了...

佳能首台纳米压印光刻机出货,开启半导体产业新机遇

在当今的科技时代，半导体产业如同一颗璀璨的明珠，吸引着无数目光。而在这个领域里，佳能近期的一个举动无疑点燃了大家的热情。他们宣布出货首台纳米压印光刻机，正如那句古话所言：“行行出状元”，这不仅是技术的突破，更是未来发展的新机遇。回到这个消息的背景，佳能已经在纳米压印光刻技术的研究上摸爬滚打了...

颠覆传统!佳能首台纳米压印光刻机重磅出货,未来科技新风向

首先啊，这纳米压印光刻机最大的亮点就是价格实惠。你想啊，ASML的EUV光刻机那么贵，很多中小型芯片制造商根本买不起，更别说用它来大规模生产芯片了。而佳能的纳米压印光刻机呢？据佳能公司的老板透露，它的价格将比EUV光刻机低得多。这对于那些想要进军高端芯片制造领域的中小型制造商来说，简直就是天降喜讯。

佳能首次出货纳米压印光刻机

佳能(Canon)9月26日宣布,将首次供应半导体的下一代制造设备——“纳米压印”光刻机(NIL),这批设备将交付给美国“得克萨斯州电子研究所”。据了解,该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前,标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是一种像盖章一样的,将纳米级别的图案刻在掩膜上,然后将...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新型纳米压印光刻机

财联社9月27日讯（编辑史正丞）全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布，成功交付首台新型纳米压印光刻机(www.e993.com)2024年11月20日。（来源：佳能公司官网）这里首先需要解释一下，佳能的纳米压印光刻（NIL）系统，与阿斯麦的光刻技术有什么区别。传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

纳米压印能否打破EUV光刻机垄断?佳能需要先兑现今年量产的诺言

ASML生产的EUV光刻机是全世界唯一能量产7纳米以下先进制程芯片的设备。今年1月,其又向外界首次公开展示了制造2纳米芯片的最新一代HighNAEUV光刻机。佳能希望纳米压印设备能够做到与其“共存”。而这一切的前提,都建立在佳能能否兑现量产诺言,真正将纳米压印技术推广至行业规模化生产芯片。

光刻技术,有了新选择

去年10月中旬,佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,可制造5nm芯片。据佳能公司CEO透露,设备售价将“比ASML的EUV光刻机少一位数”。璞璘科技创始人葛海雄去年年底曾表示:从最近的报道来看,佳能公司的纳米压印各项技术指标已经与DUV的光刻技术持平,有一些指标甚至达到了EUV的光刻技术。

国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂

公司主要产品包括自动芯片键合设备、自动晶圆键合设备、纳米压印曝光设备、光学检测设备、超大芯片专用光刻机等高端智能装备。本次国内首台大芯片先进封装专用光刻机的搬入代表着粤港澳大湾区高端智能装备企业与芯片制造企业的强强合作,是广州构建集成电路产业上下游联动牵引机制的重要成果。