刚刚:美国要求台积电停供大陆7纳米AI芯片

美国商务部致函台积电，要求从11月11日起停止向中国大陆客户供应7纳米及更先进工艺的AI芯片。消息一出，台积电通知受影响客户暂停相关芯片发货。据报道，这一出口限制措施主要针对用于人工智能加速器以及图形处理单元（GPU）的芯片。此事件凸显了美国在全球科技领域的霸权姿态，也给大陆的人工智能以及GPU相关...

特大喜讯!中国第一台芯片光刻机,已然成功交付使用

当然，我们不能天真地认为这就足够了。眼下，中国依然没有掌握5纳米、7纳米级别的EUV光刻机技术，这个高端领域目前仍是欧美企业牢牢占据着。然而，28纳米技术的突破给了我们更大的信心。目前，虽然中国的光刻机技术还有待提升，但这种实打实的进展已经是在为中国的芯片制造筑造底层基石。就像“一步一个脚印”，我们...

台积电断供7纳米,国产芯片的契机!

中国芯片的N+1工艺采用DUV光刻机生产,以多重曝光技术实现,这也导致这项工艺的生产良率偏低、生产成本偏高,在性能方面稍微不如台积电的7纳米EUV工艺,这是导致中国AI芯片大多交给台积电以7纳米工艺生产的原因。如今台积电断供7纳米及以下工艺,中国的AI芯片只能将芯片交给国内芯片代工企业,让国内芯片代工企业获得巨量的...

运营商财经网康钊:传台积电要断供中国大陆7纳米芯片

台积电将不再给中国大陆企业代工AI/GPU的芯片,很像美国的一贯做法——逼迫全球企业再半导体产业围剿中国,美国一直把对中国芯片业工艺的封杀禁令锁定在7纳米,7纳米以上被成为成熟制式,美国不太管,7纳米以下则被美国严格管控,包括能制造7纳米芯片的光刻机也被美国下令禁止销售给中国。对于传言,台积电公司不予置评,也就...

台积电断供7纳米,反而是国产芯片发展的契机

在芯片制造方面,中国最大的芯片制造企业已可大规模生产14纳米及以上工艺,N+1工艺则已实现量产,业界人士推测N+1工艺应该接近台积电的第一代7纳米工艺了,台积电的第一代7纳米工艺没有采用EUV光刻机生产。中国芯片的N+1工艺采用DUV光刻机生产,以多重曝光技术实现,这也导致这项工艺的生产良率偏低、生产成本偏高,在...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力(www.e993.com)2024年11月14日。未来,随着国产光刻机技术的迭代更新,西方国家的技术垄断地位将受到更大的挑战。中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。

ASML推出新一代EUV光刻机助力芯片制造进入1纳米节点

荷兰公司ASML近日宣布,已经开始销售新一代高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机,这标志着芯片制造技术将迈入1纳米节点的新时代。ASML是全球唯一一家生产EUV光刻机的公司,其设备对半导体行业的发展具有重要意义。新一代High-NAEUV光刻机的数值孔径从0.33提升至0.55,这使得机器能够打印出更小的特征尺寸,同时提高...

重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

可以说，28纳米光刻机的顺利交付，不仅仅是一次技术上的“跨越”，更是一次产业链的全面提升。它代表着中国在“芯片制造”自主化道路上迈出了坚实的一步。正如业内专家所说：“28纳米工艺虽然不如最前沿的3纳米技术，但它在当前全球市场中依然占据着举足轻重的地位。”这让我们有理由相信，中国的芯片产业正在逐步...

申请专利:中国7纳米芯片光刻技术取得重大突破

申请专利:中国7纳米芯片光刻技术取得重大突破据工业和信息化部发布的最新消息,上海微电子装备(集团)股份有限公司已成功提交了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利申请(申请号:CN202310226636.7)。该专利针对当前极紫外(EUV)光刻技术中的关键挑战,提出了一种创新性的解决方案,旨在高效且简便地收集...

科技企业高管确认量产7纳米,光刻胶纯国产化,摆脱对日本的依赖

由于种种原因的影响,国内对于先进工艺的量产一直很难得到真正的信息,而近日某科技企业高管则表示中国实现了7纳米的量产,表示这已是了不起的进步,今日有光刻胶企业表示7纳米光刻胶也已量产,意味着先进的7纳米也摆脱了对日本的依赖。业界谈到芯片制造的时候,关注的都是光刻机这项关键设备,其实先进的芯片制造工艺除...