中国中医科学院404.12万元采购细胞计数器,超净工作台,离心机,紫外...

14微流控芯片光刻机148.548.5最小特征尺寸分辨率:<1μm是15微流控芯片加工系统128.6728.67真空腔体容积:≥5L否16微流体细胞培养控制系统133.5233.52压力精度:≤0.1%否17智能蠕动泵20.891.78转速范围:0.1-100rpmCW/CCW,正反转可逆,调整分辨率0.1rpm否18芯片显微成像...

中国中医科学院2024年度名贵中药资源可持续利用能力建设项目中药...

项目概况中国中医科学院2024年度名贵中药资源可持续利用能力建设项目中药资源分析评价与保障平台招标项目的潜在投标人应在北京市丰台区金泽东路通用时代中心C座获取招标文件,并于2024年09月10日09点30分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:B0708-CMC24N7196项目名称:中国中医科学院2024年度名贵...

全球芯片关键技术研究最新进展

新型半导体性光刻胶复旦大学高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室魏大程团队设计了一种新型半导体性光刻胶,利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连,在聚合物半导体芯片的集成度上实现新突破,集成度达到特大规模集成度水平。

财经下午茶20240328 | 中国终止对澳大利亚进口葡萄酒征收反倾销税...

双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。商务部副部长兼国际贸易谈判副代表凌激参加会见。王文涛表示,今年是中荷建立开放务实的全面合作伙伴关系十周年。在两国领导人战略引领下,中荷经贸关系稳步发展。中方赞赏荷方坚持自由贸易,视荷方为可信赖的经贸伙伴,希望荷方秉持契约精神,支持企业履行合同义...

国产进入新一轮研发潮:电子束曝光机市场与企业盘点

Nanobeam推出的NB5型电子束光刻机依靠特有双偏转系统和共轭关闸,实现在8英寸晶圆(兼容更小尺寸,任意形状样品)的样品单次曝光制备5nm图形结构。电子束加速电压20-100kV连续可调,束流0.2-120nA,写场拼接精度≤10nm,套刻精度≤10nm。3nm束斑直径时,束流可达到2nA。

给半导体检查身体的设备,和光刻机一样难造?

光刻机、刻蚀机对造芯片的重要性已不言而喻,但若没有质量控制设备,同样无法造芯(www.e993.com)2024年11月27日。就像医疗领域的CT、彩超、生化分析仪等辅助检测身体状况的设备一样,半导体质量控制设备也是给芯片“体检”的工具,统称半导体检测设备。今年5月19日,中科飞测科创板上市,其主要业务便是国产化率只有2%的半导体检测和量测设...

EUV光刻机镜头比中子星表面还要光滑,这是如何做到的?

目前先进的超光滑表面粗糙度为0.1nm左右,蔡司能做到0.02nm真的不服不行。最后,希望中国光学技术的发展,能尽快达到生产EUV光刻机的标准。只要光学技术达到了,其它问题很快也就会迎刃而解了。当然,虽然我希望尽快,但目前来说,应该还是一个需要足够时间来攻坚的。

ASML有点慌:不用EUV光刻机,也能生产5nm芯片

所以光刻机有DUV光刻机、浸润式光刻机，EUV光刻机等，这些一代又一代的光刻机，提高的关键都是分辨率，也就是投影的精度，而对应的就是芯片工艺，比如EUV光刻机，用于7nm及以下的芯片。目前全球仅有4家厂商，能够生产制造芯片的前道光刻机，分别是荷兰的ASML、日本的尼康、佳能，中国的上海微电子。不过大家的...

光刻机详解

光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。光刻(Photolithography)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后...

重大突破!中国不需要光刻机了?一个“中国小圆盘”,世界的涅槃

在0.1mmX0.1mm基底上,刻《三国演义》全集100多万字……光刻机一辆汽车的零件约有5000个,而一台先进光刻机上的零件有10万个。仅仅是光刻机的调试,如果调试时,恰好在一里外有辆地铁经过,所产生的“震动”都可能导致设备集体失灵……光刻机