上海国产光刻机成功突围,实现在国内生产线上的应用情况

而且最近我国工信部发布的指导目录中也提到了两款国产DUV光刻机，表明它们的技术性能已经接近国际先进设备。这说明国产光刻机正在逐步迎来发展的好时期，而光刻机虽然珍贵，但是各类半导体的研发和生产几乎都离不开它们，因此市场潜力非常巨大。光刻机产线现状。我国现阶段的国产光刻机依旧以上海光电为主，上海光电是国...

荷兰强化出口限制,短短两天,中方宣布首台国产DUV光刻机问世

就在荷兰宣布限制出口的两天后，中国工信部发布了一份《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中明确列出了两款国产DUV光刻机。这一消息无疑是对荷兰限制措施的有力反击，也标志着中国在光刻机领域迈出了重要一步。国产光刻机的研发一直是中国科技界的难题。光刻机是芯片生产的核心设备，而其...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Ii...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。先从,1年前刷屏的那件开始。一声惊雷一年前...

国产首台DUV光刻机?工信部突然宣布,外媒:ASML彻底“破防”了

如今才过去十多年,我们不仅造出了光刻机,还研制出了DUV光刻机,可以说狠狠地打脸了ASML。而工信部这次之所以要大力推广光刻机这项重要技术,个人觉得不外乎两个原因:一是给国内芯片行业更多的动力和底气,二则是要加快我们光刻机的发展进程,摆脱对ASML的依赖。

国产DUV光刻机在列!工信部印发重大技术装备推广指导!

值得注意的是,在重大技术装备文件列表中包含了国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩(ArF)光刻机(65nm)的内容(www.e993.com)2024年11月10日。其中氟化氩光刻机,光源为193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。目前来说,光刻机共经历了六代的发展,从最早的436nm波长,再到第二代光刻机开始使用波长365nmi-line,第三代则是248nm的KrF激光...

美梦被打醒!中国国产光刻机官宣后,美国怒砸30亿赶超新能源汽车

每日经济新闻:工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念股走强百度百科:光刻机《美施压阿斯麦停止在华设备维护,专家:美国以安全为由肆意割裂全球产供链》——环球网#MCN首发激励计划由于平台规则,只有当您跟我有更多互动的时候,才会被认定为铁粉。如果您喜欢我的文章,可以点个“关注...

工信部推广国产DUV光刻机,最小套刻精度≤8nm

大半导体产业网消息,自中华人民共和国工业和信息化部官网获悉,日前,工信部宣布印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。本文引用地址:其中,在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括:氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?接近ASML 2015年的水平

波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知文件,通知...

国产DUV光刻机技术取得重大突破

国产DUV光刻机技术取得重大突破近日,我国半导体产业迎来振奋人心的消息,工信部宣布印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,在电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括:氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm,标志着我国在高端半导体设备自主研发领域迈出了坚实的一步。