「求思观察28」65nm DUV光刻机官宣,国产光刻机初露锋芒

9月2日，工信部发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，在电子专用装备目录下，氟化氩（ArF）光刻机和氟化氪（KrF）光刻机位列其中，二者均属于深紫外光源（DUV）光刻机，ArF光刻机参数为分辨率≤65nm、套刻≤8nm；KrF参数为分辨率≤110nm、套刻≤25nm。此前国产光刻机相关公开信息...

国光光刻机,浸润式DUV,仅一步之遥的突破奇迹

因此，干式DUV（ArF）和浸润式DUV（ArFi）的主要区别仅仅是在光刻机的工作台上增加了一套浸润式系统，即一层水，其他部分则是共享的。而浸润式系统的技术含量并不算特别高。因此，这台国产光刻机实际上已经达到了干式DUV的性能上限，是ArFi（浸润式DUV光刻机）出现之前的最后一台设备。只要能成功研发浸润式系统，...

老实话用DUV光刻机!确实能制造7纳米芯片,但我们不会这么做?

老实话用DUV光刻机!确实能制造7纳米芯片,但我们不会这么做?2024-09-2201:10:29旅游探路侠一景点大全广东举报0分享至0:00/0:00速度洗脑循环Error:Hlsisnotsupported.视频加载失败声明:个人原创,仅供参考旅游探路侠一景点大全12粉丝迟早你们会发现,这是个真正的宝藏博主!06...

光刻机维修龙头,A股唯一,华为+特斯拉唯一合作商,潜力超富乐德

今年更是直接限制了两款DUV光刻机向中国的出口,可见其压制国内光刻机发展的用心之险恶。然而出乎欧美意料的事情发生了,他们没想到我国已经悄悄掌握了光刻机的核心技术。不仅有上海微电子推出了国内首台28纳米光刻机,还有工信部在近期公布了两款DUV光刻机,光刻精度更是达到了8纳米。种种措施无不表明我国在光刻机...

【转单】英伟达7纳米转单三星代工,台积电股价重挫 ;ASML研发新代...

4.光刻机领域王者ASML研发新代机型,2025年1纳米工艺可期5.切入大陆厂供应体系加持,全新Q2营收季增31.2%6.南亚科第2季营收回温,预期下半年优于上半年1.NVIDIA7纳米转单三星,台积电股价重挫芯科技消息(文/罗伊)昨(2)日晚间传出,NVIDIA韩国区主管柳永军(YooEung-Joon)首度证实,下一代7纳米GPU订单将改由...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

9月9日,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(www.e993.com)2024年11月2日。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞...

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

此外,增加数字孔径同样能有效提升光学分辨率,虽然单个数字孔径的理论极限是一,但在引入水作为介质后,数字孔径实际可达约1.35,成为DUV光刻机能达到的光学分辨率上限。这意味着在特定波长条件下,通过优化光路设计和材料选择等手段,已经接近并逼近了38纳米的光学分辨率极限。

国产首台DUV光刻机?工信部突然宣布,外媒:ASML彻底“破防”了

但随着国产DUV光刻机的横空出世,我们在高端光刻机领域的空白正在被慢慢填补,只要我们将精度突破到真正的8nm制程,那么以后将彻底摆脱对ASML的依赖,国产芯片也将实现自给自足!对此就连外媒都纷纷表示:ASML这次要彻底“破防”了!还记得曾经我们去ASML公司参观的时候,当时ASML高管还嘲讽我们,表示就算是把图纸给我们,也...

国产DUV光刻机技术取得重大突破

国产DUV光刻机技术取得重大突破近日,我国半导体产业迎来振奋人心的消息,工信部宣布印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,在电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括:氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm,标志着我国在高端半导体设备自主研发领域迈出了坚实的一步。

全新国产DUV光刻机曝光:“套刻≤8nm”是个什么水平?

总结来说,这次曝光的65nm分辨率的国产DUV光刻机,应该只是之前的90nm分辨率的国产光刻机的改良版,还只能用于55-65nm的成熟制程芯片制造需求,还远达不到大家期望的制造28nm制程芯片的要求。当然,相比之前最先进的90nm分辨率国产光刻机来说,新的65nm分辨率的国产光刻机至少是已经有了一定的进步。但是,我们依然需要清醒的...