中国研发光刻机,比ASML早20年,现在却落后了20年?

早在上世纪60年代,中国就已经踏上了光刻机的研发征程。1965年,我们成功研制出了65型接触式光刻机,这一成就不仅在国内引起了轰动,更在国际上展现了中国的科技实力。彼时,距离光刻机巨头ASML的成立还有近20年的时间。可以说,在光刻机研发的起跑线上,中国已经占据了先机。历史的进程总是充满了变数。1971年中美建...

中国成功自主研制出光刻机,宣布两款新型光刻机,仍落后西方18年

中国终于迎来了好消息。9月15日，工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》，正式宣布中国已成功自主研制出光刻机。这条消息在中国引发了巨大的轰动，但人言可畏，经过一传十、十传百的传播后，这款仅有两道光刻工序的机器被逐渐吹捧到了天上。它真的有那么神奇吗？也有人提出质疑：已经...

俄罗斯成功研制首台光刻机,可制造350纳米芯片,这代表了什么?

回溯到1981年,中国科学院半导体所取得了一项重要成就,成功研制出JK-1型半自动接近式光刻机,这台机器在当时被视为纳米技术的先驱。而更早之前,1971年,清华大学的徐端颐教授已经开创性地研制出了中国第一台光刻机,标志着中国在半导体制造设备领域的崭露头角。然而,在EUV光刻机这一领域,中国尚未取得突破。目前全球...

国产光刻机研制成功,各国反应:荷兰被气晕,美国目瞪口呆!

近日，中国成功研制出国产光刻机的消息震惊了全球科技界。荷兰ASML公司的CEO曾经声称，即使将EUV光刻机的图纸公开，中国也无法制造出来，但如今这一论断已被事实打脸。荷兰当地媒体纷纷报道称，荷兰在光刻机制造领域的霸主地位遭到了严重挑战，令他们感到十分气愤。而在美国，中国研制出DUV光刻机的消息更是引起了轩然大...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,短期5-10年内一方面重点发展90、28nm光刻机的研发量产较为关键,一方面重点布局国内半导体零组件发展。根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核...

国产光刻机研制成功,普京盛赞送大礼,科技合作不设限,美拦不住

俄罗斯光刻机的研发成功，不仅为俄罗斯自身带来了重要的技术突破，也为中俄科技合作开辟了新的可能性(www.e993.com)2024年11月22日。在不久前的俄罗斯总统普京访华期间，两国就加强科技合作达成了多项共识。普京表示，俄罗斯愿意与中国在各个领域展开合作，包括军事技术领域，没有设定任何限制。这一表态充分显示了中俄两国在科技领域的合作潜力巨大，...

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

EUV光刻机创新历程,是从松散式的科学原理探索研究,逐步形成面向未来产业愿景和产学研用多方协同攻关创新态势,不断打通产业链、创新链上的“断点”“堵点”,成功实现集科学新发现、技术新轨道和产业新方向于一体的“大纵深”整体突破。EUV光刻技术路线验证与商业成功的历史进程,是面向产业发展需求重大科技问题的共同凝练...

自力更生,“从0到1”---科技自立自强之路

中国人自己的硅平面工艺晶体管,研制成功了。硅平面晶体管的成功振奋了国内产业界。国产光刻胶、器件封装材料、扩散炉、光刻机、压焊机、真空镀膜设备、晶体管测量仪等材料设备如雨后春笋般涌现出来,为硅产业服务的材料和设备制造业随之兴起。1964年4月,半导体所提交的5种硅平面器件通过鉴定顺利验收。1967年7月,已...

中国第一块集成电路诞生记

中国人自己的硅平面工艺晶体管,研制成功了。硅平面晶体管的成功振奋了国内产业界。国产光刻胶、器件封装材料、扩散炉、光刻机、压焊机、真空镀膜设备、晶体管测量仪等材料设备如雨后春笋般涌现出来,为硅产业服务的材料和设备制造业随之兴起。1964年4月,半导体所提交的5种硅平面器件通过鉴定顺利验收。1967年7月,已...

自力更生,“从0到1” ——中国第一块集成电路诞生记

中国人自己的硅平面工艺晶体管,研制成功了。硅平面晶体管的成功振奋了国内产业界。国产光刻胶、器件封装材料、扩散炉、光刻机、压焊机、真空镀膜设备、晶体管测量仪等材料设备如雨后春笋般涌现出来,为硅产业服务的材料和设备制造业随之兴起。1964年4月,半导体所提交的5种硅平面器件通过鉴定顺利验收。1967年7月,已...