中国光刻机再创辉煌:从436纳米到7纳米,国产技术直逼阿斯麦

中国光刻机的重大突破：从436纳米到7纳米，国产光刻技术力追阿斯麦尔近日，工信部发布的相关文件提到了氟化氩和氟化氪两款光刻机的精度能够达到8纳米以下。为了更直观地理解这一进展，可以将其与荷兰ASML公司推出的DUV光刻机——NXE:1980Di进行对比，其官方称其套刻精度为3.5纳米。由此可见，虽然我国新推出的DUV...

阿斯麦业绩“爆雷”,股价创26年最低,中国光刻机打开“新局面”

十多年来，中国在光刻机领域不断突破。2018年，中国成功研制出国产首台28纳米光刻机。2022年，上海微电子更是宣布成功研制出7纳米光刻机。虽然与阿斯麦的3纳米光刻机相比还有差距，但进步速度已经令人刮目相看。在这场光刻机之战中，不同人士的态度可谓是五花八门。有人拍手叫好，认为阿斯麦的困境是美国科技封...

首台纳米压印光刻机,佳能出货了

佳能宣布,向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。本文引用地址:这台纳米压印光刻机将交付给德克萨斯电子研究所,该研究所是德克萨斯大学奥斯汀分校支持的联盟,成员包括英特尔和其他芯片公司以及公共部门和学术组织。该设备将供芯片制造商用于...

行业专题 | 中国光刻机崛起!

3.不同型号光刻机的关键参数65nmArF光刻机:分辨率≤65nm,套刻≤8nmASML1460KArF光刻机:波长193nm,分辨率≤65nm,套刻精度3.5/5.0nm,产量≥205wphNikonS322FArF光刻机:波长193nm(134nm),分辨率≤65nm,套刻精度2.0/5.0nm,产量≥230wphASMLNXT1980Di光刻机:OPO≤3.5nm,DCO≤1.6...

【转单】英伟达7纳米转单三星代工,台积电股价重挫 ;ASML研发新代...

3.英伟达下单给三星?摩根士丹利:报道过于夸大4.光刻机领域王者ASML研发新代机型,2025年1纳米工艺可期5.切入大陆厂供应体系加持,全新Q2营收季增31.2%6.南亚科第2季营收回温,预期下半年优于上半年1.NVIDIA7纳米转单三星,台积电股价重挫芯科技消息(文/罗伊)昨(2)日晚间传出,NVIDIA韩国区主管柳永军(Yoo...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国自己的7nm光刻机,是不是真的造出来了?起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》(www.e993.com)2024年11月2日。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都没有,就突然静悄悄地官宣了中国自己的新光刻机吗?

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

那么,通知文件中的ArF光刻机(光源波长193nm,分辨率≤65nm,套刻≤8nm)极限能做到多少纳米制程?处于什么水平?极限制程能达到多少纳米?综合来看,这种规格的国产ArF光刻机性能与ASML于2015年二季度出货的ArF光刻机TWINSCANXT:1460K(分辨率为≤65nm,套刻精度<5nm)较为接近。而按套刻精度与量产工艺1∶3的关系,这...

生命科学领域“光刻机”全球竞速,中国企业在纳米孔测序仪新赛道...

9月9日,华大正式宣布加入纳米孔基因测序仪阵列,面向全球发布最新测序技术——CycloneSEQ测序技术,两款拥有自主产权的纳米孔测序仪首次对外推出。生命科学领域的“光刻机”华大集团CEO、执行董事尹烨将基因测序仪视作生命科学领域的“光刻机”,而华大自主研发生产这台“光刻机”的缘由外界并不陌生。

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

而华为的三折叠屏,纳米数不是最小的,照样卖得最贵、最好,已经能说明问题了。现在美荷制裁陷入僵局,荷兰如果加大禁售范围,中国就拿出了新的光刻机。类似在操作系统市场,华为备份的鸿蒙操作系统对安卓与iOS市场的侵蚀效应已经非常明显了。那么接下来的走势就值得观察了,脱钩断链后,我可以从低端走向高端,你能否从...

佳能纳米压印光刻机迎来重大突破!

在TIE上,佳能的FPA-1200NZ2C纳米压印光刻系统将用于该联盟中的芯片制造商的研发——这是一件大事,因为目前英特尔、恩智浦和三星使用DUV和EUV(恩智浦除外)光刻技术来制造芯片。通过研究纳米压印光刻技术的能力,这些公司可能会也可能不会在其晶圆厂采用NIL技术。据日经新闻报道,佳能似乎对这些试验寄予了...