国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

国产芯片突破五纳米订单延续至2026年在当前全球科技竞争态势日益升温的背景下，芯片产业的自我突破显得尤为重要。2024年很可能成为中国芯片发展的一个重要转折点。随着国内在5纳米光刻机领域取得显著进展，尤其是在RISC-V架构的崛起下，中国正在重塑芯片产业的格局。在经济命脉和国家安全的双重考量下，这是一场不容忽...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新型纳米压印光刻机

财联社9月27日讯(编辑史正丞)全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布,成功交付首台新一代纳米压印光刻机。(来源:佳能公司官网)这里首先需要解释一下,佳能的纳米压印光刻(NIL)系统,与阿斯麦的光刻技术有什么区别。传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆...

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元

数据显示,2023年全球半导体光刻机翻新市场的销售额达到了13.51亿美元。预计到2030年,这一市场销售额将显著增长至24.22亿美元,显示出9.4%的年复合增长率。为此,我经过深度复盘,挖掘出了5家“光刻机概念”潜力龙头,尤其是最后两家,记得保存收藏,新来的伙伴点点关注!第一家:海立股份公司高层与微电子装备集团的负责...

全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...

据悉,尼康计划在2026财年之前陆续推出三款半导体光刻机,进一步通过增加氟化氩(ArF)干式、氟化氪(KrF)以及i线三种波长的光刻机,扩展产品线并追赶竞争对手。10月22日尼康宣布,公司正在研发一款面向半导体先进封装工艺应用、“兼具高分辨率及高生产性能”的1.0微米(即1000纳米)分辨率数字光刻机,该设备预计在尼康2026财年...

27亿一台!台积电大手笔购买最先进光刻机,目标直指1nm芯片!

这27亿一台的光刻机啊，可不是一般的设备。它采用了最先进的技术和工艺，能够制造出精度极高的芯片。咱们知道，芯片上的电路图案是非常细小的，要想把这些图案准确地“刻”到硅片上，就得用非常精密的设备。而这台光刻机呢，它的精度和性能都达到了前所未有的高度。它能够制造出1纳米级别的芯片，这是目前世界...

光刻机第一龙头,重仓数亿,与ASML合作,有望大涨240%!

在关键器件方面,公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅尺部件(www.e993.com)2024年11月2日。第五家:国林科技(300786)子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入,2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证,该产品用于化学气相沉积(CVD)、原子层薄膜沉积(ALD)、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

光刻机:类似纳米级打印机,通过光源将光掩膜上图形母版投射在硅片上。工作原理:利用光刻机发出的光通过具有图形的光置对涂有光刻胶的硅片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光置上得图形复印到硅片上,从而使硅片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

“光刻机套刻小于8纳米,逻辑上对应的区间,也能上到成熟区间,甚至更高一些。但别指望它覆盖手机用的处理器工艺,主要还是面向成熟区间。”半导体行业资深观察人士王如晨对记者表示,工信部文件表格里不止氟化氩光刻机,还有配套设备,是个小生态,“看工艺节点,都侧重成熟区间,尤其28纳米”。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

近期,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞线)...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

于无声处听惊雷,日本浸润式DUV光刻机赶超ASML提及尼康的NSR-S636E,从发布的关键技术指标看,这款曝光机由于采用增强型iAS设计,可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正,重叠精度(MMO)更高,不超过2.1纳米,分辨率小于38纳米,镜头孔径1.35,对比当前型号,它的整体生产效率可提高10-15%,创下尼康光刻设备的新高,产能(wph)...