对话纳米压印技术发明人周郁:用变革性的新技术突破光刻瓶颈!

无论是光刻、电子束光刻还是X射线光刻，都跟光的波长有关，受限于光学曝光中的衍射和散射现象，受限于光学成像设备，受限于光刻胶的曝光，存在诸多技术瓶颈。当时传统的光刻技术在制造微小结构时已经遇到了瓶颈，且存在产业化难题。在1994年时，我已经对光刻、电子束光刻及X射线光刻都有深度研究，而且发展了创新的高...

冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机

近日，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。宁波冠石半导体公司是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，企业主要从事45-28nm半导体光掩模版的规模化生产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具...

泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。业内人士表示,电子束光刻机是当前推动新材料、前沿物...

100%自主可控,中企再传喜讯,重要性不亚于EUV光刻机

但中微半导体的脚步并未停歇,他们又将目光投向了电子束检测设备这一新的领域。作为当前国内仅次于光刻机的技术短板,电子束检测设备的自主研发同样迫在眉睫。尹志尧的表态,透露出中微半导体在这一领域的雄心壮志,也让我们看到了国产芯片产业链不断完善、不断壮大的希望。有人可能会说,刻蚀机和电子束检测设备的研发...

光刻胶(机)概念股整理

晶瑞电材:是国内较早进入微电子化学品生产领域的企业之一,其光刻胶业务的历史可以追溯到1976年的苏州中学办光刻胶研发室,是国内最早研发光刻胶的团队之一。公司的产品线涵盖了各种类型的光刻胶,包括紫外线(UV)光刻胶、电子束光刻胶、深紫外光刻胶等。

100%自主可控,中企传来新捷报,重要性堪比EUV光刻机!

刻蚀机的自动化程度是非常高的(www.e993.com)2024年11月25日。我们都知道,在芯片生产中,光刻机是最关键的两个环节,缺少单环会对整个行业造成很大的影响。而这一次,SMiT的成功,对于我国的集成电路工业来说,也是一个巨大的进步。但是,随着微型芯片技术的发展,人们开始把眼光转向电子束流探测装置这个新兴的行业。我国只有光刻工艺才能赶超,因此,...

国产进入新一轮研发潮:电子束曝光机市场与企业盘点

NanoBeam是一家英国公司,成立于2002年,主要生产高性能和高性价比的电子束光刻工具。据媒体报道,2016年,徐州博康收购了NBL落户徐州经济技术开发区,并将在园区内主要生产电子束光刻机、扫描电镜、高压电源以及电子束枪、无磁电机等高科技产品。NBL的电子束光刻机线宽小于8nm的工艺,相关产品已销往因英、美、德、法、...

2024,中国芯片还需更多DUV光刻机

当地时间1月1日,荷兰光刻机巨头ASML发布声明称,荷兰政府已于近期部分吊销了向中国大陆出口部分芯片制造设备的许可证,涉及设备型号为NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统,并遗憾表示“可能会对少数客户带来影响”。少数客户是谁,影响范围可能有多大?ASML没有答案。

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

总之,光刻机是制造微电子芯片的重要设备之一,但是其发展也面临着一系列的难题。摩尔定律的终结、分辨率和刻蚀速度的瓶颈、制造成本和时间的增加,以及芯片设计的复杂性和精度要求的提高等问题,都需要通过新技术的引入和工艺的改进来解决。双光束超分辨光刻技术的技术原理及优势...

关于ASML光刻机的权力斗争内幕

中间关于1995年上市后的内容,正好和《光刻机之战》系列文章产生了互动,其中一些不谋而合很有一种知音的感觉。比如,作者同样认为ASML以不值的高价收购美国SVG,是为了打入英特尔。美国身份既帮助了ASML在EUV研发中获取了利益,又为今天被迫在对中国的问题上站队付出了代价。