美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

而且28纳米这个制程在芯片应用里覆盖范围是最广的，咱们平时用的电子产品，大部分用的都是这个型号的芯片。更让人兴奋的是，2024年9月的时候，工信部发布消息说，中国研制出了两台新光刻机呢。氟化氩光刻机里比较先进的那种，照明波长是193nm，分辨率最多是65nm，套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道...

中国院士谈光刻机:国产曾有,为何选择进口?

国产光刻机取得突破政府通过提供科研经费和优惠政策等措施，全力支持国产光刻机的发展。经过几年努力，国产光刻机取得重大突破，现已能生产28纳米芯片，虽未达到国际顶尖水平，但已满足许多领域的需求。光刻机技术的艰难进步有人可能认为这仍然落后，但这种看法太急躁了。光刻机技术极其复杂，涉及多种先进技术。从...

国产光刻机终于来了!官方已正式发消息,不过

最近呀,工业和信息化部公布的《2024版重大技术装备推广应用指导目录》里,氟化氩光刻机的那些具体技术指标特别显眼地在那儿呢,这消息一下子就在国际上掀起了好多波澜。这不但意味着中国在低端光刻机这块已经完成了国产化的大跨越,还能看出中国有批量生产28纳米以及更厉中国在高科技这一块儿呀,这些年一直在努力找...

28纳米光刻机助中国称霸全球半导体成熟制程领域

重磅好消息来了,9月9日,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》显示,中国在光刻机技术领域取得重大突破。

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

此次推出的65纳米光刻机,虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距,但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域,28纳米及以上的芯片需求庞大,而中国自主研发的光刻机正好填补了这一市场空白。更重要的是,随着国产光刻机的不断改进,中国芯片产业逐步摆脱了对外技术的依赖。

芯片重回市场焦点,国产替代背景下,哪些环节有望受益?

光大证券对此指出,距此前“国产28纳米光刻机”实现推广应用不久,国产光刻胶也实现突破,相关领域“自主创新”成果进入“集中落地期”,不仅将带动相关产业链高质量发展,甚至可能成为加速整个实体经济产业升级的“关键节点”(www.e993.com)2024年11月6日。源达证券也认为,我国在半导体行业起步较晚,设备与材料长期依赖进口,国产替代存在技术难度大、供...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么本报记者李玉洋上海报道波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

第二个问题:为什么我会说这台光刻机可能不是大家想象当中的那台设备?从工信部公布文件的参数来看,这台光刻机的最小分辨率是65nm,最小套刻精度是8nm。在国产光刻机工件台唯一供应商华卓精科的招股书中有这么一段话,公司研发的DWS系列纳米精度运动及测控系统主要适用于「干式步进式扫描光刻机」,可用于65nm及以上...

光刻机国产化持续突破 多家公司股票竞相涨停

光刻机国产化持续突破消息面上,为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工信部近日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。目录显示,中国已经成功研发了氟化氪光刻机、氟化氩光刻机等。其中,氟化氩光刻机光源波长193纳米,分辨率≤65nm...

国产光刻机重大突破,半导体行业持续复苏!光刻机概念集体爆发

在《指导目录》中,“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度,能够支持28纳米工艺芯片的量产。这表明我国在半导体设备领域获得了重大突破。光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术水平直接影响到芯片的性能和成本。随着相关技术上的不...