荷兰对中国禁售光刻机,然而15天后却反悔,连忙去美国表示抗议

然而在2023年,荷兰突然宣布,ASML公司对我国出售光刻机必须获得政府同意,否则是不允许出口。此消息一出国内舆论瞬间炸锅,没了进口光刻机,我国14nm以下制程芯片产量将遭受限制。芯片将变得紧张起来,相关产品也就无法造出。而这背后其实是美国搞的鬼,在全球科技竞争的舞台上,芯片作为核心技术产品,已然成为各国争夺的...

小米的3nm和燕东微用的光刻机

在国产光刻机迟迟不见动静的情况下,是不是国产芯片技术又要被拉大距离了?星空君认为并非如此。现在的制程并非真实的物理间距,在14nm以后,这些数字就几乎不存在任何物理上的意义了,仅仅相当于一个代号。成了各厂家的文字游戏,Intel的10nm在台积电那里叫7nm,在三星那里叫5nm。不否认台积电2nm技术的先进性,但和...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么本报记者李玉洋上海报道波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首...

国产光刻机突破8nm制程?工信部正式宣布,外媒:简直可笑!

近日，我国工业和信息化部宣布了一份电子专用装备名单，其中两台光刻机正在其列，分别是套刻分辨率为25nm和8nm的氟化氩光刻机，然而一些网友误以为套刻精度就是芯片制程，实际情况并非如此。此次公开的氟化氩光刻机属于干式ArF光刻机，其在指标上与ASML9年前发售的TWINSCANNXT：1470、1460k类似，远不如TWINSCAN...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

我们这里只是简单说下人家得出的结论。此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机,实际制程约为55nm,技术水平仅相当于ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT1460K,甚至部分关键指标不如ASML2006年推出的干式DUV光刻机XT1450,所以总体差距在15—20年。对标有失偏颇,曝出尼康NSR-S636E狠角色...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?-钛媒体官方...

我们这里只是简单说下人家得出的结论(www.e993.com)2024年11月2日。此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机,实际制程约为55nm,技术水平仅相当于ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT1460K,甚至部分关键指标不如ASML2006年推出的干式DUV光刻机XT1450,所以总体差距在15—20年。对标有失偏颇,曝出尼康NSR-S636E狠角色...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

光源系统方面,据华金证券,针对准激光光源,科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等;福晶科技研发KBBF晶体。另据东兴证券,波长光电为国内激光光学元件的主要供应商,目前,公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力,公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。

绕过光刻机造8nm芯片?复旦大学突然宣布,外媒:大势已去了

也就是说在存储芯片领域,可以通过这种新工艺绕过光刻机直接造出8nm制程的闪存芯片!据悉目前该论文已经发表于国际权威期刊《自然》上面。要知道在目前的硅基闪存芯片领域,制程工艺的极限在15nm,只要低于15nm工艺就会十分不稳定,所以就连三星和SK海力士都没有追求更先进的制程工艺,而是通过多层堆叠来实现性能的提升。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

此次入选推广目录的氟化氩光刻机,应属于干式ArF光刻机。在具体指标上,与ASML旗下TWINSCANNXT:1470以及TWINSCANXT:1460K类似。国产光刻机实力几何?据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么 国产光刻机向前迈了一小步

国产光刻机向前迈了一小步光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术水平直接决定了芯片的性能和品质。长期以来,我国在光刻机领域一直受制于人,高端设备主要依赖进口。相比之前90nm分辨率的国产光刻机,新的65nm分辨率已经有了一定的进步。当然,我们依然要清醒认识到国产光刻机与国外先进水平之间的差距。