一个零件6000万!国产光刻机核心部件终被攻破!外媒:第二个ASML

在此之前，所有的光刻机生产厂家都不得不依赖ASML提供的光刻机零件，导致我们的光刻机始终无法与ASML的光刻机相媲美。然而如今，我们的光刻机终于可以独立拥有与ASML同等性能的光刻机零件。当前，国产光刻机的核心零件已经过了五个产品的认证，具备了与ASML光刻机相同的技术水平。国产光刻机已经开始步入成熟阶段，...

A股:国产光刻机迎重大突破,光刻机5大核心龙头一览!(名单)

A股：国产光刻机迎重大突破，光刻机5大核心龙头一览！（名单）光刻机（PhotolithographyMachine）是半导体制造过程中的关键设备，用于在硅片上精确地绘制电路图案。光刻机的工作原理是通过紫外光（UV）或其他光源，将掩膜版上的电路图案转移到涂有光刻胶的硅片上，然后通过化学蚀刻等工艺将图案永久固定下来。光刻机...

大事件!国产EUV光刻机最新进展来了!

要说国产半导体产业中最让人“牵肠挂肚”的无疑就是光刻机了；终于国产EUV光刻机的最新进展来了。9月10日国家专利网站公布了上海微电子一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，专利申请日期为2023年3月9日，申请号为CN202310226636.7。据了解，此项专利主要解决的是极紫外光刻过程中锡碎屑污染收...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机,实际制程约为55nm,技术水平仅相当于ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT1460K,甚至部分关键指标不如ASML2006年推出的干式DUV光刻机XT1450,所以总体差距在15—20年。对标有失偏颇,曝出尼康NSR-S636E狠角色曾几何时,我们在光刻机领域,始终将ASML作为主要的追赶对象,包...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

第二个问题:为什么我会说这台光刻机可能不是大家想象当中的那台设备?从工信部公布文件的参数来看,这台光刻机的最小分辨率是65nm,最小套刻精度是8nm(www.e993.com)2024年12月20日。在国产光刻机工件台唯一供应商华卓精科的招股书中有这么一段话,公司研发的DWS系列纳米精度运动及测控系统主要适用于「干式步进式扫描光刻机」,可用于65nm及以上...

全新国产DUV光刻机曝光:“套刻≤8nm”是个什么水平?

ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT:1460K的光刻分辨率为≤65nm,但是套刻精度更高(<5nm)。虽然这款国产DUV光刻机的分辨率也是≤65nm,都可以做65nm制程甚至更先进一些芯片,但是由于该国产光刻机套刻精度误差更大,这也将导致其良率水平可能相对会低一些。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

此次入选推广目录的氟化氩光刻机,应属于干式ArF光刻机。在具体指标上,与ASML旗下TWINSCANNXT:1470以及TWINSCANXT:1460K类似。国产光刻机实力几何?据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

东兴证券称,国内企业中,上海微电子是目前中国第一家也是唯一家光刻机巨头,出货量已占国内市场份额超过80%,产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域,其已具备90nm及以下的芯片制造能力。光刻机零部件方面,同飞股份曾在2023年中报表示,其液体恒温设备在半导体制造设备领域,主要应用于光刻机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备...

国产光刻机进展太慢?重点不是这个

这款光刻机属于公认的第四代光刻机,也就是DUV光刻机,仅次于最先进的EUV光刻机。虽然在精度上与更为先进的光刻机有差距,但它属于同一代,并不存在代差,具备很强的迭代升级空间。也就是说,这款65纳米的光刻机与能够制造7纳米工艺的光刻机之间并没有代差。所需要做的就是不断迭代升级,包括镜头、光刻胶、...