中国现在能做几nm芯片?
之前在面对外部压力的困境下,中国芯片产业艰难前行。由于光刻机的限制,国产芯片在制程上难以取得更大的突破,只能在有限的范围内进行生产和研发。然而,中国的科研人员并没有放弃,他们在艰难的环境中努力探索,寻求突破的机会。二、7nm芯片的曲折之路1.中芯国际可生产7nm芯片但良品率成本问题待解。中芯国际...
国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?
此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机,实际制程约为55nm,技术水平仅相当于ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT1460K,甚至部分关键指标不如ASML2006年推出的干式DUV光刻机XT1450,所以总体差距在15—20年。对标有失偏颇,曝出尼康NSR-S636E狠角色曾几何时,我们在光刻机领域,始终将ASML作为主要的追赶对象,包...
国产光刻机新突破:65nm氟化氩光刻机套刻8nm以下芯片的解读
到那时,它或许真的能够跨越到8nm甚至更先进的制程领域,为我国半导体产业的腾飞插上更强劲的翅膀。总体来说,国产65nm分辨率的氟化氩光刻机是我国半导体产业的一大喜讯。至于它究竟能实现多少nm,这个问题最终还是市场决定论。但无论如何定义它,我们都应该为这一成就感到鼓舞。期待实现更大的突破!
骄傲!官宣中国光刻机有重大突破,全世界就我们生产线完整
根据工信部发布的文件,可以看到有两种类型被公布:氟化氪光刻机(KrF)和氟化氩光刻机(ArF)。KrF晶圆的直径为300mm,照明波长是248nm,分辨率≤110nm,套刻精度≤25nm。相比之下,ArF晶圆同样为300mm直径,但其照明波长仅为193nm,分辨率可达≤65nm,以及更高的套刻精度≤8nm。因此,在两者之间进行比较时,可...
吴梓豪:工信部指导目录中的光刻机到底是怎么一回事?
也就是说,工信部指导目录的这台国产最先进65nm光刻机,在技术指标上落后国际主流同水平产品超过15年以上,毕竟ASML或者尼康在15年前相同光源(ArF)光刻机的数值孔镜(0.8)就比咱们现在的0.75还要高。下图借用“半导体综研”关牮老师的图表数据,大家可以更清楚地对比。
工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm
最小套刻≤8nmIT之家9月15日消息,工业和信息化部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)的内容(www.e993.com)2024年9月19日。据“工信微报”介绍道,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大...
全面禁光刻机和先进技术!美国联手荷兰扩大对华芯片出口限制,今年...
中国是ASML全球第三大市场,有消息称,ASML在中国约占其目前积压订单的20%。ASML此前有透露,到2023年底,ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。早在2018年,就有报道称,美国向荷兰政府施压,要求ASML停止向中国出口先进光刻机。近几年,美国更是将出口管制直接摆在台面上,以“国家安全”为由,不断...
中国发布最新DUV光刻机,套刻精度8纳米!与最先进设备差多少?
新公布的国产光刻机,其分辨率为65纳米,与ASML的1460k光刻机相当,均属于光刻技术中的第四世代——ArF干式光刻机,是DUV光刻机的一个重要分支。光刻机技术历经g-line、i-line、KrF、ArF干式、ArF浸没式至EUV六个世代的发展,展现了其技术演进的复杂性。值得注意的是,尽管分辨率相近,但ASML的1460k光刻机...
连美国也造不出光刻机,荷兰凭什么能够垄断全球?中国能否破局?
目前,中国自主研制的90nm光刻机已经商用了,28nm的DUV光刻机也能用来生产14nm的芯片。听起来好像挺厉害,但是要知道,世界顶尖水平已经到了3nm了。不过,别灰心啊!咱们虽然起步晚,但是进步很快。现在咱们不缺资源、资金和人才,就是缺点时间。连ASML的老总都说了,就算不把光刻机卖给中国,可能三年后,咱们自己就能搞定...
俄罗斯仍有5台ASML光刻机可用
对于俄罗斯来说,自主制造芯片离不开关键的半导体设备,特别是光刻机。目前全球主要的193nm(“深紫外”)波长的DUV光刻机供应商只有ASML、尼康和佳能,而13.5nm的(“极紫外”,接近X射线范围)波长的EUV光刻机只有ASML可以制造。ASML发言人向TheInsider证实,ASML公司从未向俄罗斯出售过大量设备。自2014年以来,只有价值...