粤芯半导体申请光刻机对准方法专利,平衡晶圆中切割道与芯片的研磨...

专利摘要显示,本申请公开了一种光刻机对准方法,涉及半导体制造技术领域。该方法包括:提供一包含对准标识和辅助标识的晶圆,对准标识和辅助标识设置在晶圆的切割道内,多个辅助标识均匀分布在对准标识的两侧或四周;其中,对准标识为包含点状图形单元的粗对准标识时,辅助标识不包含点状图形单元;对准标识为包含横向直条状图形单元...

国林科技:臭氧清洗技术在芯片和光刻机清洗中的广泛应用

臭氧清洗技术可以用于先进封装中的晶圆清洗工艺环节。请问在芯片和光刻机清洗运用领域广泛吗?董秘回答(国林科技SZ300786):尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。感谢您的关注。查看更多董秘问答>>免责声明:本信息由新浪财经从公开信息中摘录...

半导体真正龙头:7大“光刻机”龙头,细分领域真王者!(名单)

2、大港股份孙公司苏州科阳是很少掌握晶圆级芯片封装技术的企业之一，还包括园区环保服务以及集成电路。公司全资子公司上海旻艾定位于中高端IC测试，主打12英寸、8英寸的CP服务以及QFP、BGA、DIP、SOP、QFN等封装芯片测试。3、文一科技老牌半导体封测专业设备供应商，另有化学建材挤出模具、精密零部件制造业务，专注于设...

光刻机:国产光刻机迎重大突破,光刻机核心龙头一览(名单)!

中国光刻机技术的不断突破、政策的持续扶持以及市场需求的日益增长，中国光刻机龙头企业正迎来前所未有的发展机遇。从28纳米到更高精度的跨越，中国光刻机产业正以坚定的步伐走向世界舞台的中央，为全球半导体产业的发展贡献中国智慧和力量。未来，我们有理由相信，中国光刻机产业将在全球竞争中占据更加重要的位置，成为...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新型纳米压印光刻机

财联社9月27日讯（编辑史正丞）全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布，成功交付首台新型纳米压印光刻机。（来源：佳能公司官网）这里首先需要解释一下，佳能的纳米压印光刻（NIL）系统，与阿斯麦的光刻技术有什么区别。传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机(www.e993.com)2024年11月5日。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

首先,国产光刻机技术突破或在美荷的预期之内,从这次“氟化氩光刻机”的参数来看,300mm晶圆、193nm波长,其分辨率≤65nm,套刻≤8nm。这只是ArF的DUV光刻机,用来加工12寸晶圆,按套刻精度与量产工艺1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,这说明,这是一款相对初级的DUV光刻机,没法用来加工7nm...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

国产光刻机实力几何?据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。具体来看,氟化氪光刻机晶圆直径为300mm(12英寸);照明波长为248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

朱士尧的言论之所以如此引人注目,是因为光刻机在半导体制造中扮演着至关重要的角色。它就像是芯片制造的“印刷机”,负责将电路图案精确地“印刷”到硅晶圆上。没有光刻机,就无法生产出现代社会所依赖的各种电子设备中的核心部件——芯片。然而,中国在光刻机技术方面面临着严峻的挑战。

国产光刻机取得重大突破 深市产业链公司迎来发展新机遇

民生证券表示,海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求,国产光刻机技术亦在持续突破,利好半导体设备自主可控的长期发展,继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。