关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事
EUV光刻机造出一台EUV光刻机,有多难?一个朋友给我的回答是:如果说“用DUV光刻机造出7nm芯片”的难度系数是“过万重山”,那么“造出一台EUV光刻机”的难度系数,就是“过万重珠穆朗玛峰”。光刻机为什么?EUV光刻机和DUV光刻机,一个字母之差,能有多大区别?不都是发个光,投个影,再刻点沟沟壑...
俄罗斯研发首台7nm光刻机,用于芯片生产,技术实力究竟如何
制造一台光刻机有多难?光刻机也称光刻机,是大规模集成电路生产中使用的一种重要设备,用于将电路图案"转移"到临时涂有光的硅晶片上。简单地说,光刻机相当于照相机。光刻机使用紫外线来制作芯片,而照相机则使用自然光来曝光胶片。但两者的区别在于,照片的显影是将底片放大,而芯片则是将底片缩小。制作芯...
海边的沙子如何变成芯片?使用光刻机雕刻,看完长见识了
速度洗脑循环Error:Hlsisnotsupported.视频加载失败N个想法145粉丝学之习之,科学并不枯燥!01:07将沙滩球从大坝上丢下,不断的旋转下落后,结局十分精彩01:05不可思议的黑麦免耕机,前方滚筒高速旋转,除草耕地二合一01:07乐高玩具为何如此昂贵,多个角度进行分析,看完涨知识了...
从魔鬼城到光刻机
历数我刻下名字的地方,有中小学时各个年级使用的书桌,山顶的凉亭木椽,荒滩旁种植的杨树,乡村老屋背阴处的苔藓,夏天正午空无一人的河岸大堤石桥……做这些的时候,我并不怕荒废时间。人在雕刻自己名字时,往往无比专注,仿佛时间专为此而生、为此而用,木屑或者尘土飞到脸上浑然不觉。直到多少年之后,我才知道这一切是...
像盖图章一样造芯片?佳能纳米压印技术不藏了
目前芯片制造最主要的方式是光学投影式光刻,其原理很简单,类似于胶片相机洗印照片时,将胶片上的的图像印在相纸上,只不过在光刻过程中,“胶片”变成了掩膜版,“相纸”变成了表面均匀涂抹对光敏感的物质——即涂抹了光刻胶(PR)的硅片。刻有电路图案的掩膜版,经过光刻机特定波长的光学系统投影后被缩小,再“曝光...
柔弱的雕刻大师——EUV光刻机
荷兰ASML的EUV光刻机众所周知,既然要“雕刻”,那影响雕刻精细程度的因素除了匠人的技艺,最重要的就是刀刃的大小了,而光刻机这种以光为刀的设备,其发展方向便是追求更极致的“刀刃”的大小(www.e993.com)2024年10月20日。那么,对于光来说,刀刃的大小,自然就是光的波长。从第一代和第二代光刻机,其使用光源分别为436nm的g-line和365nm...
投资者提问:公司生产的光刻机是用来雕刻花岗岩的吗?技术如此先进...
公司生产的光刻机是用来雕刻花岗岩的吗?技术如此先进,解决了国外卡脖子董秘回答(大族激光(23.530,2.14,10.00%)SZ002008):尊敬的投资者,您好!目前,公司光刻机项目主要应用在分立器件领域,分辨率3-5μm,公司将根据市场需求及业务发展情况制定研发计划,谢谢。
芯片的雕刻刀!投入占比超光刻机,揭秘在国产替代前列的刻蚀设备
光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的三大核心设备,如果把芯片比作一幅平面雕刻作品,那么光刻机是打草稿的画笔,刻蚀机是雕刻刀,沉积的薄膜则是构成作品的材料。光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸,刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工,因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重...
上海微电子攻克90nm光刻机,能造7nm芯片吗?与ASML差距多大呢?
打开网易新闻查看精彩图片ASML的EUV光刻机已经可以制造14nm以下工艺的芯片,而尼康和佳能的DUV光刻机只能制造28nm制程的芯片。因此,目前主流手机芯片,如:高通骁龙、苹果A系列、联发科天玑等都使用了ASML的EUV光刻机。台积电、三星、英特尔号称芯片制造三巨头,如果没有ASML的光刻机,它们也全部歇菜。
EUV光刻机内部揭秘!
光刻机内部的反射镜会积聚来自EUV光源的锡碎屑。镜子被清洁和抛光后,这台机器用于检查它们。“对于这里的可变性,我们处于埃和纳米级,”他说。在标线中使用玻璃至关重要;它不像金属那样受热变形。但它非常难以雕刻——这是工程师必须慢慢解决的另一个问题。