美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸
中高端光刻机的研发,还没到终点,依然任重道远,我们要尊重科学、正视基础科学的复杂性与精密性,但也要对中国工业潜力与未来长期发展多一份乐观,按照当前的进度,光刻机突破,打破芯片制造瓶颈,实现全产业链自主可控或指日可待,我们拭目以待。作者:王新喜TMT资深评论人本文未经许可谢绝转载...
荷兰加大对中国科技限制,中国自主研发光刻机成功问世
面对美国的持续施压,荷兰做出了让步,通过了一个涉及台湾的决议,并扩大了对中国光刻机的出口管制。然而,仅仅几天后,中国宣布自主研发出了先进的光刻机,向外界发出了强烈的信号。在今年3月,荷兰当时的首相吕特访问中国时,曾表示对光刻机的出口管制并非针对某个特定国家。但不到半年时间,荷兰就改变了政策,要...
中国光刻机正式官宣,美国被打脸,美网友疑惑能研发光刻机吗
工信部正式宣布DUV光刻机,其套刻精度可达或低于八纳米。说起来,这幸福来得实在有些突然。自2017年以来,美国便对中国的芯片行业展开了全面封堵。不久前,曾有意笼络日本和荷兰,以对中国加强管控,而就在此时,中国的光刻机应运而生。这时间安排得也太死板了,根本不给人留点空间。显然,小于或等于八纳米的水...
国产光刻机,我们真的造出来了
我记得在美国刚刚对我们进行芯片封杀的时候,很多所谓的专家举了一个例子,那就是以中国的国力要造原子弹不难,不外乎就是成本的问题,可是要造光刻机就完全不一样。一个光刻机需要上千个不同领域最高精尖的零配件。阿斯麦也不是靠着一家公司就造成光刻机,事实上那是整个西方世界最高端科技产业的集体力量。光刻...
中国自主研发的光刻机成功问世,标志着重大突破!
中国自主研发深紫外光刻机成功当美国洋洋得意地以为他们通过不正当手段获得了巨大胜利时,中国却给了他们一个沉重打击。在9月9日,工业和信息化部悄悄公布了2024年首批重大科技创新目录。目录中赫然列出了氟化氪光刻机(110nm)和氟化氩光刻机(65mm),这意味着中国首次宣布掌握了自主生产的深紫外光刻机!这一...
中国为何自行研发光刻机?西方国家被逼无奈,还是想实现技术升级
虽然我们国家还没有研制出如此厉害的光刻机,但中国在这发展的道路是正确的(www.e993.com)2024年9月20日。因为只有我们研发出光刻机之后再进行一定的升级,那么,我们的光刻机绝对会在该领域站稳脚跟的。其次也不需要再看他人的脸色了,也不用担心时不时的被他人“卡脖子”了。而在说道我们为何会“被逼无奈”,其实是因为西方国家正在不断地“...
光刻技术的过去、现在与未来
1925年,最早的光刻机的出现标志着光刻技术的工业化开端。这些设备利用玻璃光版作为基板,在其表面形成微细结构。这一时期,虽然光刻技术尚未应用于半导体制造,但为其后工业化应用提供了重要的技术基础。到了1950年代至1960年代,随着半导体行业的崛起,光刻技术开始逐步应用于集成电路制造。这一时期的重要突破包括光刻胶...
玉渊谭天丨涉及光刻机,中美商务部长通话为何重点谈了这四件事...
事实上,阿斯麦早在出口限制风险来临之前,就已经开始加速向中国交付。去年11月,中国从荷兰进口的光刻机按价值计算同比上升1050%,它们几乎全部来自阿斯麦。正是有了这样的应对措施,在美媒渲染“阿斯麦取消中国订单”时,阿斯麦在官方通告中,说的是突然撤销的出口许可证或美国最新的出口管制限制,不会对其2023年的财务...
刚刚,我国DUV光刻机实现里程碑式突破!
生产光刻机的技术门槛非常高,全球主要的光刻机供应商是荷兰的ASML公司。三、中国的光刻机发展历程1.起步阶段(20世纪60年代-90年代初)在20世纪60年代,中国开始涉足半导体产业,但技术水平较为基础,光刻机的技术也较为落后。当时,中国的半导体设备主要依赖进口,国内缺乏独立研发能力。80年代后,随着改革开放和经济...
一中国企业曝接近式光刻机研发进展 但离EUV光刻机还差太远
接近式光刻机出现的年代太早了。70年代初,美、日等西方国家分别研制出多种型号的接近式光刻机,为了适应我国大规模集成电路制造技术当前的发展需要,1978年,中科院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机。接近式光刻机之后是第三代的扫描投影式光刻机,在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破,将光刻推向了深...