日企大力投资光刻胶等关键EUV材料

信越化学的光刻胶适用于各种光刻工艺,包括EUV。三菱化学加大了对光刻胶材料Lithomax的投入。该公司正在其九州工厂安装量产设备,目标是将ArF光刻胶产量提高一倍以上,并在2025年9月之前实现EUV光刻胶的首次量产。三井化学正在开发下一代掩模防护膜,即用于EUV光刻的保护膜。其山口工厂计划2026年开始生产,年产量为5000...

中国光刻胶技术差距日本有多远?从材料到技术,中国如何逆袭

光刻胶是一种聚合物薄膜材料,能够在紫外光、电子束、离子束等辐射下发生聚合或解聚反应。根据图像形成的不同,光刻胶分为正性和负性两大类。按曝光光源的不同,光刻胶又可细分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X射线胶、电子束胶等,广泛应用于集成电路、显示面板及各种细微图形的加工作业。光刻胶的主要成分包括感...

国产光刻胶来了?美提议:对华禁售关键材料,为何日本反而犹豫了

光刻胶与芯片：产业博弈的关键节点光刻胶作为芯片制造过程中不可或缺的材料，其作用相当于在硅片上作画的“画笔”，决定了芯片的精度与性能。长期以来，全球光刻胶市场几乎被日本垄断，日本企业掌握了80%的产能。这也使得我国芯片产业在光刻胶供应上存在较大的依赖性。我国科技公司近年来在芯片领域取得了不小的进...

半导体自主可控:半导体制造材料国产化情况梳理

半导体材料处于整个半导体产业上游,主要分为制造、封装材料。(1)制造材料:硅片、掩模版、光刻胶、湿电子化学品、抛光材料、电子特气、靶材七大类。成本分布:硅片33%,电子特气13%,掩膜版12%,光刻胶6%,湿电子化学品7%,抛光材料6%,靶材2%。(2)封装材料:引线框架、封装基板、陶瓷基板、键合丝等。二.半导体...

光刻胶是什么材料?这种材料在半导体制造中有何重要性?

光刻胶:半导体制造中的关键材料在半导体制造领域,光刻胶是一种不可或缺的重要材料。它是一种由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成的混合物,具有特殊的化学和物理性质。光刻胶的主要成分感光树脂决定了其感光度和分辨率等关键性能。增感剂则有助于提高光刻胶对光的敏感度,从而能够在光刻过程中实现更精细的图案...

光刻胶:半导体高壁垒关键材料,产业链龙头厂商全梳理

光刻胶的未来：机遇与挑战并存那么，光刻胶的未来会怎样呢？从目前的趋势来看，半导体光刻胶将继续引领行业发展(www.e993.com)2024年11月22日。特别是EUV光刻胶，这可是当前最先进的光刻技术所需要的材料。谁能在EUV光刻胶领域取得突破，谁就可能成为下一个行业霸主。不过，机遇总是与挑战并存的。随着芯片制程不断缩小，对光刻胶的要求也越来...

光刻胶最新8大核心龙头股,这篇文章帮你梳理清楚

南大光电:国内光刻胶领先的研发和生产企业,全球四大MO源制造商之一,国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶生产商南大光电于2012年8月7日在深圳证券交易所上市,股票代码300346。公司主营业务为从事先进电子材料生产、研发和销售。根据南方财富网产业链数据显示,公司产品线涵盖MO源、半导体前驱体材料、氢类电子特气、...

功能型光刻胶助力高集成度有机芯片制造

功能型光刻胶——高集成有机芯片的关键材料克服有机芯片的高集成度制造难题,我们需借鉴硅基芯片制造行业经验。若能成功将硅基芯片的加工工艺可靠地运用于制造有机芯片,就能突破当前有机芯片的集成度瓶颈,实现与硅基芯片相当的集成度。硅基芯片集成度的快速提高,得益于光刻技术的快速发展。光刻技术的原理类似于照相...

新型显示光刻胶亟待突破

近日,中国光学光电子行业协会液晶分会常务副秘书长胡春明表示,我国显示面板行业发展迅速,相关的原材料大多已实现国产供应,但彩色/黑色光刻胶的国产化率仍然非常低,新型显示用光刻胶这个整体市场规模不足百亿元的原材料却紧扣着超万亿元总投资的产业发展。

盘点我国16种“国产替代”新材料突围进展_生产_产能_高性能

并对高端新材料的发展做出明确指示:推动高端稀土功能材料、高品质特殊钢材、高性能合金、高温合金、高纯稀有金属材料、高性能陶瓷、电子玻璃等先进金属和无机非金属材料取得突破,加强碳纤维、芳纶等高性能纤维及其复合材料、生物基和生物医用材料研发应用,加快茂金属聚乙烯等高性能树脂和集成电路用光刻胶等电子高纯材料关键...