显影液:被遗忘的半导体材料明珠之(4)—半导体材料国产替代的验证...
光刻胶通过客户验证并实现量产需要经过反复的送样、反馈、调整配方,整个周期长达2-3年,且为了保持光刻胶质量和效果稳定,厂商通过认证成为长期供应商后,客户不会轻易更换。光刻胶单体的验证的主要流程为:生产商向潜在客户研发样品送样,客户测试各项质量指标并合成树脂后进行验证;产品验证通过后,进行验...
基础化工行业中期策略:顺高景气赛道,掘金格局优异的新材料
浸没式液冷则是直接浸没在冷却液中,在数字货币矿场和超算中应用较多,直接冷却方式的散热能力更强,器件超温风险更低,无需风扇的方案减少震动,延长了硬件设备的使用寿命,且浸没式液冷的机房侧冷冻水供液温度高,室外侧更易散热,机房选址不再受地区和气温限制,在新建液冷项目竞争中更具前景。浸没式液冷冷却液中,...
半导体材料行业深度报告:扩产高峰替代加速,国产材料迎发展良机
根据其光敏特性具体又可以分为正性光刻胶和负性光刻胶:显影时未曝光部分溶解于显影液,形成的图形与掩膜版相反,称为负性光刻胶;显影时曝光部分溶解于显影液,形成的图形与掩膜版相同,称为正性光刻胶。负性光刻胶和正性光刻胶在黏附性、对比度、分辨率等方面特性有所差别。但总的来说,由于负胶在显影...
干货分享丨电路板(PCB)制造出现各种问题及改善方法
1.12.8.,暗房处理光绘的底片,需经显影,定影处理方可供后续工序使用。暗房处理时,要严格控制以下环节:显影的时间:影响生产底版的光密度(俗称黑度)和反差。时间短,光密度和反差均不够;时间过长,灰雾加重。定影的时间:定影时间不够,则生产底版底色不够透明。不洗的时间:如水洗时间不够,生产底版易变黄。特别...
轮转胶印中网点增大的原因
1.选择优质版材,合理控制曝光时间和显影液浓度为了保证网点转移的效果和印版的高耐印性,印版应图文清晰,网点牢固。通常情况下,5%的点不会丢失,95%的点不会模糊。2.将各种印刷压力控制在合理的范围内印版滚筒与橡皮布滚筒之间的压力应控制在15——20线,两个橡皮布滚筒之间的压力应控制在22——28线,...
十八般摄影场景,你是样样精通,还是样样稀松?
2.雨天拍摄,常常会出现曝光偏多的现象,而曝光过度对表现雨景是极为不利的.因为雨天景物反差小,曝光过度会使反差更小,照片看起来是灰蒙蒙一片.所以,一般多采用减少曝光,延长显影的办法,来改善反差的情况.可按正常曝光量减少一挡到一挡半,每减少一挡时,可增加20%-30%的显影时间,这样有助于提高画面反差....
世人皆言光刻胶难,可到底难在哪里?
数据显示,哪怕是面板光刻胶这样相对低端的产品,验证周期往往也要有1~2年,而关键的半导体光刻胶更是需要2~3年,这也带来了下游企业更换供应商的动机很弱,上下游深度绑定的现象[15]。同时由于光刻胶自身高度多样化的产品特征,不同客户的测试要求与验证流程也不一致,带来了更为复杂的不确定性。
平版制版原理及方法|油墨|印力|版材_网易订阅
预涂感光版的晒版工艺流程为:曝光→显影→停显→上墨→除脏→烤版。预涂版的曝光方法与平凹版曝光相同,晒版光源可用具有近紫外光范围的光源。显影可用手工显影,也可用PS版显影机进行显影。手工显影用长绒刷.将显影液倒在版面均匀刷显,并不断更换新鲜药液,用PS版显影机显影,把晒好的印版关入机器,印版自动前...
建设项目环境影响报告表
(1)生产废水①制版根据建设单位提供资料,冲版工序所需冲版液进行冲版,显影,项目所用冲洗槽的有效容积为100L,定期更换,更换频率约为1个月,部分更换.项目年工作365天,根据显影液使用量,则产生的最大冲版废液量约为0.89t/a,最大日废液产生量约为2.44kg/d.本项目所产生的废显影液做危废处理,属于《国家...
北京市应急管理局 工作动态 印刷企业通用标准
油墨、正丙醇、异丙醇、酒精、丙酮、乙醚等易燃品,显影液等腐蚀品应储存在专用仓库、专用储存室、气瓶间或专柜等专门的储存场所内,不应露天存放。812不具备建专用仓库条件的,应通过增加危险化学品配送频次等有效措施将存放量降低至规定要求内,在本单位适当区域设专用储存室。813下列情况应设置专用仓库:814a...