阿斯麦“掉链子”,国产光刻机替代加速!这3家公司现金流充足!

光刻机，这个看似低调的"配角"，却在半导体产业链中扮演着至关重要的角色。它就像是芯片制造过程中的"画笔"，将复杂的电路图精准地"画"在硅片上。没有高精度的光刻机，就无法生产出性能优越的芯片。正是由于其关键地位，光刻机行业长期以来被少数几家国际巨头所垄断。然而，随着全球半导体产业格局的变化，特别是...

光刻机唯一掌握EUV光刻机技术,供货华为,中科院强势抢筹

中科院在EUV光刻机领域取得重大突破！这可不是一个简单的科技新闻，它关乎着中国芯片产业的未来，特别是对华为这样的科技巨头来说，简直就是久旱逢甘霖。要说这事儿为啥这么重要，得从华为这几年的遭遇说起。2019年那会儿，华为可是风光无限，麒麟芯片叱咤风云，5G技术领先全球。谁知道美国一纸禁令，直接把华为逼到...

中国国产光刻机官宣后,美国宣布砸30亿,誓在新能源领域搞大动作

然而,封锁并未阻止中国前进的步伐,反而促使中国企业和科研机构,不断加大对核心技术的攻关力度。上海微电子、华为等国内领军企业,联合各大科研院所,在光刻机的研发上取得了一系列突破。在不久前,国产光刻机的推出成为全球科技领域的一大焦点,28nm制程的国产光刻机正式亮相,这标志着中国在芯片制造设备领域迈出了重要...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

逆风而上:国产光刻机的关键突破然而,面对种种质疑,中国的科研力量选择了默默攻关。光刻机的研发之路虽步履维艰,但并未停止脚步。2023年9月,工信部发布公告,宣告中国成功自主研发了65纳米的干式光刻机,并且实现了所有子部件的国产化。这一消息一出,迅速震动全球。对于那些此前一度唱衰中国光刻机产业的声音,...

佳能推出新光刻机,专用于小型晶圆

佳能光刻机,再获突破。佳能公司今天宣布推出FPA-3030i6i-line步进机,这是一款新型半导体光刻系统,用于处理直径为8英寸(200毫米)或更小的晶圆。FPA-3030i6与之前的镜头相比,新开发的镜头具有较高的透射率(概念图)FPA-3030i6采用了新开发的高透过率、高耐久性的投影镜头,可降低高曝光量工艺中的镜头...

国产光刻机突破28nm了吗

01工信部签发的通知文件提及国产光刻机技术指标,表示国产DUV光刻机取得重大突破,甚至传出了国产DUV光刻机突破8nm工艺的说法(www.e993.com)2024年11月13日。02然而,国产光刻机的分辨率仍受制于数值孔径和浸没式光刻技术,目前尚无法达到28nm工艺要求。03为了提高分辨率,工程师们创造了许多令人赞叹的技术,如相移光罩、模型光学临近效应修正、过蚀刻...

首台大芯片光刻机成功交付!中企传来重大喜讯,ASML“破防”了

当然，这只是中国半导体自立之路上的一个重要起点。尽管28纳米的光刻机已经能够应对许多工业和消费级芯片的制造需求，但我们在最先进的7纳米甚至5纳米工艺方面还有一段路要走。不过，这次的成功为后续的技术攻关打下了坚实的基础，也带动了我们与其他国家的合作。中俄合作打破西方垄断最近传来消息，俄罗斯首台自主研发...

一周动态:陈南翔当选中国半导体行业协会第八届理事会理事长;厦门...

其中提出,鼓励发展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制造材料,支持清洗设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、沉积设备、封装设备(划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等)、检测设备(测试机、探针台等)以及单晶生长炉、外延生长炉等设备、关键零部件及工具国产化替...

上海新阳: 2023年年度报告

圆代工产能的不断提升,预计??2025??年中国半导体光刻胶市场规模有望达到??100??亿元。随着制程缩减和存储容量提升,光刻次数增加,单位面积光刻胶的金额也会越来越高。????CMP??研磨液(Slurry)是晶圆化学机械研磨过程的重要耗材,由固体粒子研磨剂、表...

光刻机交给民营企业来攻关?

看到这段文字,我想我国半导体领域最重要的技术攻关任务应该就是光刻机了,难道是要交给民营企业来攻关了?同日,中国半导体行业协会理事长陈南翔在接受中央广播电视总台CGTN专访,陈南翔表示,“中国在发展集成电路的进程中走了很多的弯路。本质上我们想要发展的是一种产业,但是在过去这一事情是交给大学、研究院、科学院来...