有望打破EUV光刻机技术封锁,未来或改变芯片行业格局

咱们也得实事求是。虽然光子芯片给咱们中国芯片产业带来了新希望，但现在就说完全不需要EUV光刻机，那还真有点言之过早。在7纳米以下的先进工艺中，EUV光刻机还是很重要的，特别是在传统硅基芯片的制造中。但光子芯片的出现，确实给了咱们一个全新的思路。通过发展光子技术，咱们中国可以在某些特定领域实现弯道超车。

光子芯片取得重要突破,中国或将绕开EUV光刻机瓶颈

避免了对EUV光刻机的依赖，能够更灵活地应对国际市场的变化。通过自主研发光子芯片，中国有望在不久的将来实现“弯道超车”，摆脱被动跟随的局面。这一进展不仅能够降低对外技术的依赖，还将增强中国在全球芯片市场的竞争力。

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

往芯片的原材料,也就是晶圆片上,均匀地涂上一层光刻胶。第二步,打光。让特定的光束,透过画了电路图的掩膜版。有线条遮着的地方,光透不过去,光刻胶还是本来的脾气。没线条遮着的地方,光透过去了,和光刻胶一照面,光刻胶就变成了另一种脾气。第三步,洗胶。把两种脾气的光刻胶所覆盖的晶圆片,放进...

光刻机封锁该结束了!美国到底是失算了,还是中国越来越强大了?

都知道芯片的制造是离不开光刻机的,由此可以得出我国光刻机的成功研制,在未来,中国芯片是能够实现“白菜价”的。而光刻机的成功研制也还需要一个最重要的材料,那就是——光刻胶。之前美国还想着与日本共同在光刻胶领域对我们进行限制,但如今他们做的一切都将是一场“无用功”。因为中国有能力再次取得突破,所...

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

目前,全球最先进的EUV光刻机被荷兰ASML公司牢牢掌控。这种高端设备,就像是芯片界的“点金手”。它能够在硅片上刻画出极其精细的电路图案,决定了芯片的性能上限。现在最先进的可以制造3nm制程的芯片,而中国目前的水平还停留在28nm。差距不小,对吧?但别灰心,我们正在奋起直追。

美禁令不息,中国产芯片2845亿颗,攻守或变局?

芯片困境激发自主化动力，产量逆势增长芯片产业这事儿，可真跟咱们国家的未来发展息息相关(www.e993.com)2024年11月5日。你看现在中美之间的那些纠葛，美国对中国科技的打压，尤其是对中国的科技禁令，这事儿闹得是挺火的。在美国政府的压力下，荷兰的ASML公司没法给中国卖最先进的光刻机，还有像台积电这样的大厂，也不能给中国的厂商做高端...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国都造不出,中国永远不可能

而顶尖的光刻机,在制作时需要各种顶尖技术,为了保证高精度,即使是一点偏差,都可能导致失败。别说中国造不出来,美国想要独自研制光刻机,也是不可能的,目前的光刻机,汇集了全世界最顶尖的技术,这些专利由多个国家提供,可以说是全世界共同完成的。信息来源登载于:财联社2021年2月25日关于“中国芯片产业九问,能...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

第一步:理解光刻技术。光刻技术是指通过使用光将电路图案转移到硅片上的过程。传统上,我们使用的是193纳米的深紫外(DUV)光源。然而,随着芯片特征尺寸越来越小,传统DUV光源难以实现精细的图案。图:EUV光刻机第二步:引入EUV技术。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于...

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

使用浸润式DUV光刻机+多重曝光技术生产5nm芯片完全可行,不计代价的情况下甚至能做到3nm。尽管理论上可行,且在7nm节点上已被部分晶圆厂验证过,但这需要诸多条件同时满足,比如多重曝光中关键的“套刻精度”——多次曝光之间图形对准的精度。此外,也涉及到许许多多的制程手段,比如相移光罩、模型光学临近效应修正、过...

光刻机无望?美国都造不来,中国永远都不能造出来?为什么这样说

在芯片制造过程中,光刻机需要将电路图案准确地投射到硅片上,这对精度要求达到几纳米甚至更高,这就需要光刻机的机械系统能够在极小的尺度上进行精准操作,不能失误,稍稍有些偏差就可能导致芯片报废。包括光学系统,这是光刻机制造的关键部分,光刻机通过光学透镜将电路图案投射到硅片上,因此光学系统需要具备高透镜质量...