阿斯麦掉链子,光刻机国产替代加速!只有这3家公司现金流充足!

最后说说永兴光学。这家公司专门研发生产光学显微镜和精密光学元件，产品能用在光刻机上。它自己研发的LDI光刻机镜头，还实现了国产替代呢！账面上有7.9亿现金，负债才2.41亿，也是个不错的选择。不过啊，这光刻机市场虽然火热，但也别高兴得太早。这国产替代的路，可不是那么好走的。你想啊，人家老外做了这么...

想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

光刻机的镜头完全被德国蔡司垄断，目前暂时没有合适的供应商可替代，这也是国产高端光刻机面临的最大瓶颈。如果能够解决镜头的供应问题，我们在开发EUV光刻机时将会顺利许多。

源达研究报告:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

二、光刻机是半导体设备明珠,对芯片生产至关重要光刻机是半导体制造中最核心的设备,光刻机的性能直接决定晶圆产线的制程节点和产能上限。现代光刻机通常采用投影式光刻技术,原理是将调制后的光束透过掩模板照射在涂有光刻胶的晶圆表面,从而实现将掩膜版上的线路图等比例缩小转移至晶圆表面的光刻胶上,再通过...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。两种声音,两种节奏。不知道,你听完是什么感觉?“造出7nm芯片”,到底是个什...

美梦被打醒!中国国产光刻机官宣后,美国怒砸30亿赶超新能源汽车

美国智库的说法不是没有根据的,中国已经从模仿、复刻走上了创新自研的道路,即使是落后的半导体领域,中国也在以极快的速度缩小差距——DUV光刻机的出现就是实证。作为中国国产的光刻机,它可以生产28nm工艺的芯片,不过这距离当前的7nm顶尖芯片还有很长一段距离,可这已经是中国在高端制造上走出的重要一步。

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

01国产光刻机官宣后,国外网友沸腾,而美国荷兰却沉默,原因可能是国产光刻机技术突破尚未触及ASML的核心利益(www.e993.com)2024年11月2日。02ASML在高端EUV光刻机上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。03然而,美荷可能还在等待华为Mate70的发布,以更好地看清国产光刻机的发展情况。

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

国产光刻机实力几何?据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。具体来看,氟化氪光刻机晶圆直径为300mm(12英寸);照明波长为248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

国产首台DUV光刻机?工信部突然宣布,外媒:ASML彻底“破防”了

从目录中我们可以看到,目前我们的氟化氩光刻机的套刻精度已经达到了8nm以下,分辨率也达到了65nm以下,而且该光刻机是Arf光刻机,也就是所谓的DUV光刻机,也就是说我们国内首台DUV光刻机已经成功面世了!虽然从参数来看,该光刻机的单次曝光能够达到65nm制程左右,进行多重曝光后也能达到28nm制程的样子,相当于ASML于...

白山头:国产光刻机进展太慢?重点不是这个

国内目前的需求就足以消化掉国产先进光刻机的产能。也就是说,这款先进光刻机仍然处于供不应求的状态,当然优先供给自己使用。当一个产品供不应求时,也就没有必要进行推广。按照中国人一贯低调的做事风格,没有必要官宣的时候,也无需官宣。而且通常不会把最先进的技术拿出来。

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

好好好,国产光刻机终于官宣量产了。这回可不是搜集信息之后的推理,而是正八经儿工信部文件公布的信息。2024年9月2日,工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知。在这份文件当中,首次出现了氟化氪KrF和氟化氩ArF光刻机。但要注意的是,这台