传台积电、三星接连断供7纳米芯片,国产光刻机要加速了

功夫不负有心人，在各方力量的努力下，我们顺利实现了28纳米光刻机的自研突破，虽然它和全球顶尖的3纳米光刻技术相比还存在不小的差距，但已经开启了中国半导体产业历史上的新篇章。从市场应用前景来看，28纳米光刻机已经能够满足许多主流芯片的需求，特别是在汽车、物联网等领域，这一技术已经非常实用且有着巨大的...

有望打破EUV光刻机技术封锁,未来或改变芯片行业格局

这不仅是技术上的突破，更是在向全世界宣告中国有能力在没有EUV光刻机的情况下，也能造出牛逼的芯片。咱们也得实事求是。虽然光子芯片给咱们中国芯片产业带来了新希望，但现在就说完全不需要EUV光刻机，那还真有点言之过早。在7纳米以下的先进工艺中，EUV光刻机还是很重要的，特别是在传统硅基芯片的制造中。但...

突破重围:中国EUV光刻机专利悄然出击,全球半导体格局或将重塑

最近，国内芯片行业的一则消息引发了广泛关注，也让全球半导体巨头们为之侧目。上海微电子，这家在光刻机领域深耕多年的中国企业，悄然在德国递交了6项关于EUV光刻机的核心专利申请。消息一出，犹如一颗石子投入平静的湖面，迅速激起了千层浪。要理解这件事的意义，首先要了解光刻机在芯片制造中的地位。如果把芯片制...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

要知道,光刻机是制造先进芯片的关键设备,目前全球最先进的极紫外(EUV)光刻机,只有荷兰ASML公司能够生产,售价高达1.5亿美元。中国企业长期未能突破这一技术壁垒,成为制约我国芯片产业发展的瓶颈。那么,中国真的永远无法自主研发光刻机吗???——·光刻机·——??2023年9月,一段采访视频在网络上引发了...

国产5G芯片公开,国产芯片真国产化,不再受制于ASML的光刻机

如今回看去年ASML突然获得许可对中国销售先进光刻机,或许欧洲方面就已了解到中国的浸润式光刻机已取得重大突破,因此ASML突然获得许可对中国销售先进光刻机;再到如今该款国产5G芯片公开,无疑进一步印证了国产浸润式光刻机的突破。国产芯片制造的重大突破,对国内芯片产业来说无疑具有极大的意义,毕竟如今的芯片都需要先...

官宣!中国芯片重大突破,美国看了马上联合日韩偷摸搞事!

美国还采取了封锁芯片出口的举措,限制了关键技术的交流和共享更可笑的是它还联合了日韩荷兰等国,限制向中国出售光刻机和制造过程所需的关键材料,试图进一步削弱中国的半导体产业虽然美国限制的轰轰烈烈,但中国完全就不把它放在眼里(www.e993.com)2024年11月24日。这不最近,中国的科学家们成功研发了“第三代玻璃穿孔技术”这一突破性技术被认为是...

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

01中国工信部宣布氟化氩193nm波长、8nm的套刻精度光刻机已进入推广目录,标志着国产光刻机取得重大突破。02尽管与国外先进光刻机存在较大代差,但28nm光刻机的突破意味着中国在众多工业化领域已实现自主。03由于国内对光刻机的需求极度迫切,产业前进速度往往比预想中快,光刻机突破打破芯片制造瓶颈指日可待。

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

我的感觉是,或许,可以先晚点再“感觉”。因为,对于大部分人来说,造芯片这件事,太陌生了。比如,随便看一句新闻:“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?

没有EUV光刻机,也造不了5nm、3nm,国产芯片如何突破?

以3D封装为例,对于上下堆叠是同一种芯片,通常TSV就可以直接完成电气互联功能了,而堆叠上下如果是不同类型芯片,则需要通过RDL重布线层将上下层芯片的IO进行对准,从而完成电气互联。仍然回到英伟达的AI芯片,作为先进封装的代表方案,CoWoS虽然是10年前台积电联合赛灵思开发的,但是最终在英伟达的AI芯片上被发扬光大。

不需要光刻机了?中国实现“量子芯片”突破,外媒:低估了中企

不需要光刻机了?中国实现“量子芯片”突破,外媒:低估了中企目前市场上的芯片大多都是硅基芯片,而这种芯片的发展需要用遵循摩尔定律,当达到1nm工艺后,就很难再突破了,所以行业内也一直在寻找新的替代材料和芯片技术,其中量子芯片就是不少国家重点发展的对象,让人没想到的是,国内的科技企业也很早就对量子技术进行...