脑机时代即将到来!我国华为突破新专利,或将有望离开光刻机

是的,没错。先不说我国华为有没有突破新技术,也就是脑机接口芯片专利,就在光刻机领域,我国已经得到了显著的成功。这也就意味着我们不再依赖于国外了,中国摆脱光刻机势在必得。当然,我们不只是因为摆脱国外的光刻机而摆脱的,而是我们意识到了:唯有把核心技术掌握在自己手中,我们才能够不断地前进着。一旦我国...

财经早参丨道指跌近260点 英伟达市值一度超苹果;中国上市公司回购...

特斯拉、英特尔跌超2%,谷歌、亚马逊、Meta跌超1%,苹果、奈飞、微软小幅下跌;英伟达小幅上涨,市值3.34万亿美元,逼近苹果公司,盘中一度超越苹果成为全球市值最高的公司;特朗普概念股大涨,特朗普媒体科技集团涨超12%。

中国光刻机技术突破:上海微电子在德申请EUV专利引关注

而最近，上海微电子在德国申请了6项EUV光刻机的关键专利，让整个科技圈都沸腾了。“中国在EUV领域有重大突破了？”这个引发广泛猜测的事件，直接带来了不小的震撼。先来说说这个EUV光刻机，它为何能引发这么大的轰动。说白了，EUV就是“极紫外线”的意思，它使用的波长只有13.5纳米，非常非常短，用来刻画芯片上...

突破重围:中国EUV光刻机专利悄然出击,全球半导体格局或将重塑

最近，国内芯片行业的一则消息引发了广泛关注，也让全球半导体巨头们为之侧目。上海微电子，这家在光刻机领域深耕多年的中国企业，悄然在德国递交了6项关于EUV光刻机的核心专利申请。消息一出，犹如一颗石子投入平静的湖面，迅速激起了千层浪。要理解这件事的意义，首先要了解光刻机在芯片制造中的地位。如果把芯片制...

中国光刻胶,离日本还有多大差距?

光刻胶行不行,技术突破只是一个方面,不能只看专利和论文,最终还是要看落地到产业的情况。除了前面提到的南大光电和国科天骥等企业之外,中国的光刻胶企业还有不少。在A股,目前有约20只光刻胶相关的股票,代表着中国光刻胶领域的中坚力量。上市公司彤程新材号称是中国唯一掌握高档光刻胶研发技术的企业,大陆唯一一...

申请专利:中国7纳米芯片光刻技术取得重大突破

申请专利:中国7纳米芯片光刻技术取得重大突破据工业和信息化部发布的最新消息,上海微电子装备(集团)股份有限公司已成功提交了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利申请(申请号:CN202310226636.7)(www.e993.com)2024年11月24日。该专利针对当前极紫外(EUV)光刻技术中的关键挑战,提出了一种创新性的解决方案,旨在高效且简便地收集...

半导体行业大洗牌,中企已经申请EUV专利,阿斯麦股价应声大跌!

这两款光刻机的测量单位都是纳米，数字越小表明性能越优越，所能制造的芯片工艺也就越为先进。2019年5月，我国上海微电子申请了一项新专利，内容涉及“极紫外辐射发生装置及光刻设备”。该专利的图纸排版与阿斯麦的一项专利相似，这引发了抄袭的质疑。随着中国在半导体关键技术上逐步取得进展，荷兰最大的光刻机制造商...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核心设备,国产化率不足3%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大,这样的技术发展需要长达5-10年甚至更久远时间才能逐步突破。我国2023年进口光刻机...

“光刻机第一股”终止IPO

芯东西7月4日报道,近日,上交所官网披露终止半导体装备企业北京华卓精科科技股份有限公司(简称“华卓精科”)的发行上市审核,原因是华卓精科及其保荐人撤回发行上市申请。顶着冲刺“光刻机第一股”的光环,华卓精科闯关科创板之路一度备受关注,其IPO拟募资7.35亿元,用于半导体装备关键零部件研发、超精密测控产品研发中心等...

珂玛科技:光刻机领域独家优势及国产替代合作

董秘您好,辛苦了!公司在光刻机领域的应用方面有哪些独家优势?上海微电子专利又有新的突破了,现在咱公司和上微有哪些国产替代方面的合作?谢谢董秘董秘回答(珂玛科技SZ301611):尊敬的投资者您好!公司先进陶瓷材料零部件主要用于半导体制造前道工序,已覆盖刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备。公司为主流...