3纳米光刻机 国产光刻机厂家
###3纳米光刻机的行业影响3纳米光刻机的成功研制和应用,对集成电路、平板显示、光通讯以及生物医学等多个领域产生了深远影响。在集成电路领域,
x-ray光刻机 国产光刻机厂家
X-ray光刻机的出现,为半导体行业带来了诸多优势。首先,它大大提高了生产效率。由于X射线的穿透力强,可以在短时间内完成大面积图案的刻蚀,从而缩短了生产周期。其次,X-ray光刻机提高了产品的性能。由于图案刻蚀的精度更高,所生产的芯片具有更高的集成度和更低的能耗。此外,X-ray光刻机还有助于推动半导体行...
16家!2023年国产半导体设备商IPO情况盘点
官网显示,晶阳机电是专业的直拉式硅单晶生长炉生产厂家,目前主要产品有单晶炉、铸锭炉、石英坩埚、其他半导体相关设备,公司技术力量雄厚,研制开发技术支持能力强大,现有研发人员23名,其中多人具有硕士以上学历,并在上海同时设有销售及售后服务中心;生产基地位于国家历史文化名城嘉兴,占地面积近25000平方米(约29.8亩),生产...
半导体设备行业专题报告:刻蚀机走在国产替代前列
2004年,阿斯麦和台积电共同研发的浸没式光刻机诞生,由于是在成熟的193nm技术上改进的,设备稳定性和改造成本明显优于尼康同时推出的157nm干式刻蚀机。阿斯麦的市场份额随之大幅提升,从原来的不到10%到2009年达到了70%,成为绝对的领先者。尼康在此关键节点上的决策错误使其在短短几年时间内失去了行业领先...
中国厂商抢购二手芯片制造设备:市场现涨价潮 日本光刻机翻了三倍
据了解,目前我国的设备公司正逐渐打入供应链,譬如中微公司(688012.SH)、北方华创(002371.SZ)等厂商的刻蚀设备、成膜设备已进入中芯国际供应链,盛美半导体(ACMR.O)、至纯科技(603690.SH)、芯源微(688037.SH)等也实现了清洗机等设备的稳定供货。陈真告诉《华夏时报》记者,二手设备市场形成的契机主要还是...
半导体行业等离子清洗机的应用及其工艺气体选择
等离子刻蚀在半导体封装领域有广泛的应用,包括光胶去除、薄膜去除、有机复合物去除,以及二氧化硅(SiO)、氮化硅(Si3N4)、砷化镓(GaAs)刻蚀等等(www.e993.com)2024年10月19日。在光电子元件制造领域,等离子体刻蚀已经被用于去除光导纤维外面的有机保护层。4、表面交联(Crosslinking)等离子体诱导的表面交联指的是等离子气体诸如氩气和氦气等离子体从...
半导体设备行业研究:国产化加速,开启千亿新蓝海
具体而言,全球排名前三的第一梯队半导体机械手生产厂家主要有美国布鲁克斯(Brooks)、日本Rorze、日本Daihen,三者占有全球55%的市场份额,第二梯队生产厂家主要是日本厂商Hirata、Yaskawa、JEL、Nidec、Robostar,约占27%的市场份额。2.2.2EFEM:核心部件由国外供应商垄断,国内企业已实现突破...
国产化率不足10%!一文看懂国产半导体材料产业现状
3、行业竞争格局:日系厂商占据主导,国产化率不足5%根据SEMI的数据显示,2020年全球半导体硅片市场,主要被日本信越(28.0%)、日本胜高(21.9%)、中国台湾环球晶圆(15.1%)、韩国SKSiltron(11.6%)、德国Siltronic(11.3%,已被环球晶圆收购)这五大家所占据。即便是中国大陆最大的半导体硅片厂商——沪硅产业集团,在全球市...
国产化率还不到10%!一文看懂国产半导体材料
晶圆制造材料中,硅片为晶圆基底材料;掩膜版用于光刻工艺底板;光刻胶用于将掩膜版上的图案转移到硅片上;靶材用于薄膜沉积;电子特气用于氧化、还原、除杂;湿电子化学品用于清洗、刻蚀;抛光材料用于实现平坦化。封装材料中,封装基板与引线框架用于保护、支撑芯片及建立芯片与PCB间的连接;键合丝用于连接芯片和引线框架;...
电子行业深度报告:供需呈现结构性差异,国产化仍是长期主线(下)
PVD设备国产化率为10%,主要代表厂家为北方华创;CMP设备国产化率为10%,主要代表厂家为华海清科;涂胶显影设备实现零的突破,主要代表厂家为芯源微;光刻设备预计实现零的突破,主要代表厂家为上海微;离子注入机实现零突破,代表厂家为万业企业(凯世通);量测设备实现零的突破,代表厂家为精测电子;此外,华峰...