光刻机概念股开盘走强 张江高科、永新光学均2连板

消息面上，广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案（2024—2030年），其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。

光刻机龙头股沉睡3年,10转12派36获批,或涨至69元

光刻机又被称为光刻对准曝光机或掩模对准曝光机,不仅是光刻工艺乃至整个芯片制造过程中的核心设备,还是用于微电子和半导体工艺中的关键设备,被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。光刻机的工作原理是利用光刻技术,采用类似照片冲印的技术,将电子器件的图形图案转移到半导体材料或薄膜上,以制造集成电路和其它微纳米器件。

唯一掌握5nm刻蚀机黑马,业绩大增,外资重仓5941万股,有望腾飞

美国的科技封锁策略目前正面临困境,其效果逐渐减弱。我国坚定走科技自立自强之路并成效显著,尤其在芯片设计领域打破国际垄断实现国产替代。光刻机和刻蚀机作为芯片制造核心环节的关键设备至关重要,其核心技术长期被欧美掌握,给我国半导体产业自主可控发展带来挑战和风险。但我国科研机构在逆境中展现强大韧性和创新能力。清...

中国50亿重资光刻机厂落地,国产半导体寻出路,荷兰该急了!

光刻机，又称曝光系统或掩模对准曝光机，是芯片制造的关键设备。可以将其简单地看作投影仪或照相机，光刻的过程就是在硅片上准确无误地印刷出集成电路的线路和功能区域。这一整套光刻流程包括了硅片的清洗与烘干、底涂及涂覆光刻胶、软烘处理、曝光以及后续烘干等步骤。光刻机是现代尖端技术的结晶，涉及物理、光学...

天塌了,英特尔或被收购;国产光刻机重大突破

除光刻机,其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征金属膜层刻蚀机、化学气相沉积设备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测装备等。莱迪思,换帅了...

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

东兴证券称,上海微电子是我国第一家也是目前唯一的光刻机巨头,出货量占国内市场份额超过80%,产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域,其已具备90nm及以下的芯片制造能力(www.e993.com)2024年11月4日。光刻机零部件方面,同飞股份曾在2023年中报表示,其液体恒温设备在半导体制造设备领域,主要应用于光刻机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!

东海证券认为,目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,短期5~10年内一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键,一方面重点布局国内半导体零组件发展。光刻机产业链亟须发展东海证券称,根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上...

国产光刻机官宣成功 半导体产业链再次得到提振

以改善国产光刻机分辨率。除了攻关更高数值孔径的物镜,还可以研发浸没式光刻机,将物镜与晶圆之间的空气介质替换为水,等效缩短波长λ。另外,也可以通过防震动、双光束成像、多重曝光等技术降低k1。总体来说,国产光刻机追赶海外先进水平的道路并不平坦,但不可否认已经取得了国产替代的重要突破。并且光刻机零部件、整...

光刻机概念股大涨 同飞股份18日“20CM”涨停

资料显示,同飞股份是国内领先的工业温控综合解决方案服务商,下游应用场景主要为数控机床与激光设备、半导体制造设备、电力电子装置、储能系统、氢能装备、数据中心等领域。公司液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

A股半导体板块探底回升 光刻机方向领涨

格隆汇10月22日｜茂莱光学、台基股份、士兰微涨停，国民技术、晶华微涨超10%，明微电子、艾森股份、慧智微等涨超5%。消息面上，广东印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。