粤芯半导体申请光刻机对准方法专利,平衡晶圆中切割道与芯片的研磨...

辅助标识不包含点状图形单元;对准标识为包含横向直条状图形单元和纵向直条状图形单元的细对准标识时,辅助标识不包含点状图形单元、横向直条状图形单元和纵向直条状图形单元;将晶圆转移至光刻机上,通过对准标识将晶圆和掩膜进行对准

荷兰的反击!ASML的60台光刻机与中美芯片争夺战的关系

依然表示将继续向中国客户出口DUV光刻机，并声称将根据国际规则和荷兰政府的许可，决定是否向中国出口EUV光刻机。这一举动无疑是对美国试图封锁中国芯片产业的回击。但世事无常，2023年初，荷兰政府在美国的强大压力下，对ASML的EUV光刻机出口实施了新的限制。这一限制意味着ASML无法再自由地向中国出口其最先进的光刻...

中国芯片崛起:光刻机的远程操控与中美科技战的博弈

在产品价格方面，如果中国在某些技术上实现突破，随之而来的就是产品价格的下降，比如过去的盾构机和液晶屏幕。今年五月，ASML更是发出威胁，警告若中国大陆采取相关行动，他们能够远程关闭芯片制造设备，连最先进的EUV光刻机也会面临这个命运。这意味着，只要美国下令，ASML可以远程把全球任何一台光刻机变成无用之物。...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

也是打出一束光,穿过一组透镜系统,再穿过一层掩膜版,就能把掩膜版上刻着的电路图,投射到制作芯片的衬底,也就是晶圆片上。区别只在于,放电影,是用“放大镜”,把小图投成大图。光刻,则是用“缩小镜”,把大图投成小图。用光的投射做杠杆,真聪明。可是,到这一步,也只是清楚地描好了边,知道接下来往哪儿...

国产光刻机与华为芯片的关系,真相如何?

接下来关于光刻机的消息不断。有人在讨论它和芯片之间的关系。是不是真的有联系，其实大家心里都清楚。只要有人把这两者扯到一起，毫无疑问的，直接就可以不考虑了。如今，国内的光刻机正处于变革阶段，这对中高端市场的布局显然是个良机。在这方面，光刻机的实际意义便在于此。然而，似乎总有人认为制造这个光...

绕开EUV光刻机:中国芯片产业开始破局,能实现“弯道超车”吗?

导读:绕开EUV光刻机:中国芯片产业开始破局,能实现“弯道超车”吗?在全球半导体产业格局日益复杂多变的背景下,高端EUV光刻机作为芯片制造的核心设备,其技术封锁与供应限制已成为制约我国芯片产业发展的关键瓶颈(www.e993.com)2024年11月6日。特别是美日荷三方协议的实施,更是将这一困境推向了前所未有的高度。面对这一严峻挑战,中国芯片产业必须深...

...债务风险可能加剧!光刻机巨头大动作,计划与韩国两大芯片巨头...

据界面新闻,韩国产业通商资源部12月13日表示,总部位于荷兰的阿斯麦公司(ASML)计划扩大与韩国芯片制造商的业务合作。除ASML计划与三星电子共同投资1万亿韩元(约合54.4亿元人民币)在韩国建芯片研究中心外,ASML还与韩国第二大芯片制造商SK海力士签署谅解备忘录,以开发回收极紫外(EUV)光刻机中使用的氢气的技术,以降低极紫...

海外芯片股一周动态:美国MKS宣布在马来西亚建厂 环球晶扩厂计划获...

4.ASML拟于2030年推出Hyper-NAEUV光刻机,将芯片密度限制再缩小——ASML前总裁MartinvandenBrink宣布,约在2030年将提供新的Hyper-NAEUV技术。高数值孔径(High-NA)是将数值孔径(NA)从早期EUV工具的0.33NA提高到0.55NA。约三年前,ASML称,高数值孔径将协助芯片制造商在至少10年内达到2nm以下制程节点。现在...

芯片那些事儿

芯片制造的每一个环节,都离不开先进的制造设备和高质量的原材料。制造设备的进步,如光刻机、蚀刻机、薄膜沉积机等,是芯片制造技术不断突破的关键。ASML的EUV光刻机,作为芯片制造的“心脏”,其复杂的设计和精密的制造,体现了全球供应链和跨国合作的力量。在原材料方面,高纯度的硅材料是芯片制造的基础,而特殊气体...

EUV光刻机争夺战,正式开打

ASML的高数值孔径EUVTwinscanEXE光刻机的物理尺寸比低数值孔径EUVTwinscanNXE光刻机更大。现有且广泛部署的ASMLTwinscanNXE将光源放置在其下方,这需要非常具体的晶圆厂建筑配置,并且使维护这些工具变得更加困难。相比之下,高数值孔径TwinscanEXE机器水平放置光源,简化了晶圆厂的建设和维护,但需要更...