真空等离子处理机:推动行业发展的关键技术
真空等离子处理机能够进行高精度的表面蚀刻。在半导体制造等需要微观结构加工的行业,它可以精确地蚀刻出纳米级别的结构。这对于制造高性能的芯片等半导体产品具有关键意义,能够满足现代电子产品不断提高的性能需求。可控制的蚀刻过程蚀刻过程具有高度的可控性是真空等离子处理机的又一优势。操作人员可以通过调整处理机的参...
全力建设全球研发中心城市丨中南智能:在金属表面蚀刻出高精度...
主持人:近日,中南智能自主研发的便携式激光蚀刻机通过国家电网计量检测认证,这意味着该项产品可运用于电子设备制造、工业制造及物联资产管理,助力国家数字电网建设。主持人:在中南智能研发实验室,工程师轻点几下便携式激光蚀刻机屏幕,20秒内就能在金属表面蚀刻出高精度的二维码。主持人:二轴、三轴激光振镜和控制单元...
LED支架等离子体蚀刻机的优势和市场前景
1.高效性LED支架等离子体蚀刻机采用高能等离子体电弧烧蚀技术,能够快速、高效地蚀刻出精细的图案和结构,提高了生产效率。LED支架2.精度高LED支架等离子体蚀刻机采用高精度控制系统和高精度蚀刻头,蚀刻出的图案和结构精度高,能够满足高精度加工要求。3.易操作LED支架等离子体蚀刻机采用智能控制系统,操作简单...
中国科技突破,光刻机核心零部件自主研发成功!
特别是对于蚀刻机,中微电子蚀刻机的技术水平已达到5nm工艺,甚至已进入台积电的设备供应链,达到国际顶级水平。当前,随着大批科研人员在核心技术领域不断进行研究和开发,中国在多个领域的技术水平都取得了显著突破和成就。甚至在一些领域,技术水平已经达到世界领先水平。特别是,高精度激光干涉仪设备已经实现重大突破,...
【头条】台积电“冷落”High-NA EUV光刻机启示录
1.台积电“冷落”High-NAEUV光刻机启示录相比于激进的英特尔,不仅已完成业界首台商用高数值孔径(High-NA)EUV的组装工作,更有消息放出英特尔已“承包”ASML今年全部高NAEUV光刻机产能,台积电却依旧“淡定”,表示继2nm之后推出的A16(1.6nm)制程也不会采用该光刻机。
光刻机核心设备大龙头,被错杀69%后严重低估,周五量能突然放大2倍
这家企业生产的液体恒温设备,在半导体制造设备领域中主要应用于光刻机,蚀刻机等设备上(www.e993.com)2024年10月5日。而凭借着多年工业温控行业的经验,公司的产品还涵盖半导体制造工艺流程中严苛的温控需求,包含氟化液为介质的制冷机组、温控±0.02℃的高精度制冷机组和耐温800℃高效换热器等,助力国内半导体产业的发展。
IPO研究:新恒汇封装电路材料国产化受关注
设计、制造、封测、材料、设备,产业链上下游企业开始相继发力,努力实现国产替代,增强产业链安全。众目期待中,拟创业板IPO的新恒汇电子股份有限公司(以下简称“新恒汇”)专注在集成电路封装电路材料领域的突破,成为行业和资本关注的焦点。攻关高端封装电路材料,高精度蚀刻引线框架已经成为国产化替代优选...
芯片那些事儿
制造设备的进步,如光刻机、蚀刻机、薄膜沉积机等,是芯片制造技术不断突破的关键。ASML的EUV光刻机,作为芯片制造的“心脏”,其复杂的设计和精密的制造,体现了全球供应链和跨国合作的力量。在原材料方面,高纯度的硅材料是芯片制造的基础,而特殊气体、化学品和光刻胶等,也在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色。
一篇文章看懂“半导体”产业链!
涂胶显影设备做的企业就更少了,国内好像只有“芯源微”这家公司在研发,他的估值那就更高了,一年的利润同样也才2亿多,市值已经高达131亿。目前国际上的涂胶显影设备主要掌握在日本企业手里,比如东京电子(TEL)和迪恩士(DNS),还有韩国的CND也还行。显影设备标记出来的位置,还没有真正刻到晶圆上面,通过蚀刻才能留...
【铜峰会直播】铜矿、铜棒、铜板带箔等产业链现状及展望 硬核技术...
引线框架发展:多脚化、高密度化、超薄、微型化引线框架用材料:高强高弹、高导、高抗软化温度、高精度、高表面质量引线框架加工方式:由传统物理冲压成向蚀刻成形转变服役条件:集成电路向高集成化、高流通能力、高可靠性发展,布线更加细微化。蚀刻框架铜合金的主要性能要求...