日企大力投资光刻胶等关键EUV材料

信越化学的光刻胶适用于各种光刻工艺,包括EUV。三菱化学加大了对光刻胶材料Lithomax的投入。该公司正在其九州工厂安装量产设备,目标是将ArF光刻胶产量提高一倍以上,并在2025年9月之前实现EUV光刻胶的首次量产。三井化学正在开发下一代掩模防护膜,即用于EUV光刻的保护膜。其山口工厂计划2026年开始生产,年产量为5000...

华科光刻胶:实现原材料全部国产,配方全自主设计,因此关注度高

光刻胶：又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图...

中国光刻胶技术差距日本有多远?从材料到技术,中国如何逆袭

光刻胶是一种聚合物薄膜材料,能够在紫外光、电子束、离子束等辐射下发生聚合或解聚反应。根据图像形成的不同,光刻胶分为正性和负性两大类。按曝光光源的不同,光刻胶又可细分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X射线胶、电子束胶等,广泛应用于集成电路、显示面板及各种细微图形的加工作业。光刻胶的主要成分包括感...

重大突破!芯片光刻胶关键技术被攻克:原材料全部国产 配方全自主设计

据介绍,其研发的T150A光刻胶系列产品,已通过半导体工艺量产验证,实现了原材料全部国产,配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。公开资料显示,光刻胶是一种感光材料,用于芯片制造的光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版...

国产光刻胶来了?美提议:对华禁售关键材料,为何日本反而犹豫了

光刻胶与芯片：产业博弈的关键节点光刻胶作为芯片制造过程中不可或缺的材料，其作用相当于在硅片上作画的“画笔”，决定了芯片的精度与性能。长期以来，全球光刻胶市场几乎被日本垄断，日本企业掌握了80%的产能。这也使得我国芯片产业在光刻胶供应上存在较大的依赖性。我国科技公司近年来在芯片领域取得了不小的...

半导体自主可控:半导体制造材料国产化情况梳理

一.半导体材料概览半导体材料处于整个半导体产业上游,主要分为制造、封装材料(www.e993.com)2024年11月22日。(1)制造材料:硅片、掩模版、光刻胶、湿电子化学品、抛光材料、电子特气、靶材七大类。成本分布:硅片33%,电子特气13%,掩膜版12%,光刻胶6%,湿电子化学品7%,抛光材料6%,靶材2%。

光刻胶是什么材料?这种材料在半导体制造中有何重要性?

在半导体制造领域,光刻胶是一种不可或缺的重要材料。它是一种由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成的混合物,具有特殊的化学和物理性质。光刻胶的主要成分感光树脂决定了其感光度和分辨率等关键性能。增感剂则有助于提高光刻胶对光的敏感度,从而能够在光刻过程中实现更精细的图案转移。溶剂的作用是使光刻胶能够...

光刻胶最新8大核心龙头股,这篇文章帮你梳理清楚

南大光电:国内光刻胶领先的研发和生产企业,全球四大MO源制造商之一,国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶生产商南大光电于2012年8月7日在深圳证券交易所上市,股票代码300346。公司主营业务为从事先进电子材料生产、研发和销售。根据南方财富网产业链数据显示,公司产品线涵盖MO源、半导体前驱体材料、氢类电子特气、...

芯片光刻胶关键技术被攻克 原材料国产配方自研

据介绍,其研发的T150A光刻胶系列产品,已通过半导体工艺量产验证,实现了原材料全部国产,配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。公开资料显示,光刻胶是一种感光材料,用于芯片制造的光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上绘制好电路图。

光刻胶是什么材料?这种材料在高科技产业中有什么应用?

在高科技产业的舞台上,光刻胶扮演着至关重要的角色。光刻胶是一种具有特殊性能的材料,它在微电子制造等领域发挥着不可或缺的作用。首先,我们来深入了解一下光刻胶的成分。光刻胶通常由感光树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的基本性能,如分辨率、粘附性和耐蚀刻性等;光引发剂...