中科大副院长直言:光刻机美国都造不出,中国永远不可能造出来
目前,我国普遍所能达到的最高光刻机工艺水平也仅仅是90纳米。但当前我们比制造光刻机设备更紧迫的,是要研发生产光刻胶,或者说它俩本来就有密不可分的关系。2023年,在芯片生产中提出了一个词汇“国产替代”。最开始,国产替代指的是应对国外垄断产品的断供而生的技术,但实际上也是考验国内产业的内生驱动力。
我国研发出首个碳纳米管张量处理器芯片
此外,碳基晶体管展现出比硅基CMOS晶体管更优的速度、功耗等综合优势,碳基张量处理器在180纳米技术节点具有3倍性能优势,并有延续至先进技术节点的潜力,有望满足人工智能时代对高性能、高能效芯片的需求。
国产光刻机无望?中科大副院长:美国都造不出来,中国更是没可能
信息来源:1钛媒体——造光刻机难度超乎想象教授:美国都别想造出2024-07-132钛媒体——全面禁光刻机和先进技术!美国联手荷兰扩大对华芯片出口限制,今年中国已“扫货”250亿美金|硅基世界3光明网:荷兰学者:美国胁迫荷兰扩大光刻机出口管制范围2024-09-09...
阿斯麦CEO回应来了,中国到底能不能造出光刻机?
别的不说,单说华为,用着相对落后的DUV光刻机,都能做出7纳米的麒麟芯片,而对岸的台积电,得用更高级的EUV光刻机才能实现类似的工艺。从这细节就可以看出来,中国的芯片制造水平,其实并不差。然而,真正限制我国芯片产业迈向更高层次的,其实就是EUV光刻机。目前,国际上能够造出EUV光刻机的企...
中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!
这种独特的经历让他能够从更宏观和全面的角度看待中国的科技发展。光刻机的技术壁垒光刻机是芯片制造过程中的核心设备,其基本原理是利用光学系统将电路图形投影到硅晶圆上,从而实现芯片的制造。这个看似简单的过程实际上涉及了极其复杂的技术挑战。首先,光刻机需要在纳米级别的精度下工作,这就要求光学系统具有极...
深圳一企业造出可测1纳米的工业尺子:能直接测量芯片
该公司历经18年用心打磨15把硬核科技尺”,从纳米到百米,从接触式到非接触式,不断拓展工业测量领域全尺寸链条(www.e993.com)2024年9月19日。据公司董事长马俊杰介绍,其公司制造的显微测量仪,分辨率已达到了0.1纳米,在半导体领域已经大量使用,能够直接测量芯片。例如,一枚看似光滑的晶圆,在显微测量仪下,表面看上去依然是错落有致,经过测量,高度差...
我国科学家开发出可规模制造的光子芯片材料
光子芯片是未来信息产业的重要基础,业界一直在寻找可规模制造光子芯片的优势材料。中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣领衔的团队在该领域取得突破性进展,他们开发出钽酸锂异质集成晶圆,并成功用其制作高性能光子芯片。该成果5月8日发表于国际学术期刊《自然》。
国际首次,我国成功研制出这一芯片
目前,量子光源芯片多使用氮化硅等材料进行研制,与之相比,氮化镓量子光源芯片在输出波长范围等关键指标上取得突破,输出波长范围从25.6纳米增加到100纳米,并可朝着单片集成发展。“这意味着,‘量子灯泡’可以点亮更多房间。”电子科技大学基础与前沿研究院教授、天府绛溪实验室量子互联网前沿研究中心主任周强解释,通过为量...
聚焦未来芯片 我国开发出可规模制造光子芯片的材料
新华社电光子芯片是未来信息产业的重要基础,业界一直在寻找可规模制造光子芯片的优势材料。中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣领衔的团队在该领域取得突破性进展,他们开发出钽酸锂异质集成晶圆,并成功用其制作高性能光子芯片。该成果5月8日发表于国际学术期刊《自然》。
俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方
俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。俄罗斯曾经号称世界第二军事强国,但在半导体领域却落后西方至少25年。百业凋零的俄罗斯,越来越依赖中国。