中国台湾宣称要限制2nm芯片技术出口,日本如何还能分一杯羹?

该光刻机的功能主要是用于先进制程的芯片生产，能够生产2纳米及更小尺寸的芯片。Rapidus计划于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将包括EUV光刻机在内的200余台设备。按照Rapidus计划，2027年，公司开始量产2纳米芯片，并有可能进一步生产1.4纳米芯片。除Rapidus外，日本未来还有至少两家晶圆厂将先后导入先进的...

重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

长久以来，光刻机作为芯片制造的关键技术，一直被荷兰ASML公司所垄断，而中国此次成功自主研发出28纳米光刻机，无疑打破了这一垄断局面，标志着中国半导体产业迈上了新的台阶。28纳米光刻机：意义远超过“技术跨越”“光刻机”究竟是什么呢？简而言之，它是一种能将芯片线路图精确投影到硅片上的设备。如果没有光刻...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

美国政府对14nm以下的芯片那是严防死守啊，这把我国高端制造业的发展都给阻碍了。有一点得说一下，在阻止中国发展这件事上，美国的两党意见特别一致，像特朗普搞的毒丸条款，还有拜登弄的芯片法案就是例子。西方国家设置排他性条款，人为给第三国和中国之间制造贸易壁垒，中国的高科技产业有和整个西方国家“脱钩”的...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

厉害了!俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350纳米工艺的芯片

目前,我国可以生产7纳米芯片,但仍有很多人指出远远落后于欧美国家。其实,14纳米的芯片可以满足70%的生产需要。更高端的5纳米目前绝大部分用于手机和其他对体积要求较高的移动智能设备!如今,俄罗斯生产出首台350纳米光刻机,就感到非常满足和自豪。因为这样可以满足他们最重要的能源和电信行业的需求。

稳了,国内193nm的DUV光刻机,也能制造5nm芯片

但是,在没有EUV光刻机的前提之下,利用这种193nm的浸润式DUV,确实是可以生产5nm的芯片出来的(www.e993.com)2024年11月28日。不过,虽然技术是这样,但我认为,我们没有必要强上5nm而5nm,就只制造7nm也蛮好的,因为7nm和5nm相比,性能并不会有实际性的大提升,7nm也够用的情况下,强行上马5nm并无商业意义,你觉得呢?

台积电说中国能造8nm,华为却认为制造先进芯片面临很大困难背后

杨光磊指出,中芯国际用阿斯麦的DUV光刻机是可以做到7nm,因为台积电第一代7nm也没有用EUV,即极紫光的这个机器,所以做7nm没有问题的。他表示:“国产氟化氩光刻机它的波长大概193纳米,用193纳米要做一个8nm的技术,绝对是可能的,它要把193再除以2再除以2,就除到一个程度就会变成接近8nm,只要它在那个地方印好几...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?接近ASML 2015年的水平

《中国经营报》记者注意到,该文件一经发布后,关于国产光刻机取得大突破的言论“喜大普奔”,还有人把“套刻≤8nm”误认为8nm光刻机。事实上,套刻精度指的是每一层光刻层之间的对准精度,而≤8nm的套刻精度并不一定代表能制造8nm工艺的芯片。“光刻机套刻小于8纳米,逻辑上对应的区间,也能上到成熟区间,甚...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。俄罗斯曾经号称世界第二军事强国,但在半导体领域却落后西方至少25年。百业凋零的俄罗斯,越来越依赖中国。