隐形的“芯片大省”:半年生产364亿块,位居第三超过浙江、上海
在甘肃,除了华天科技公司外,还有许多其他重要的芯片企业,如万里、奥普等,这些公司构成了甘肃芯片产业的核心支柱。值得强调的是,芯片的生产是一个极为复杂的过程,需要经过数千个步骤才能最终实现。目前,甘肃省的芯片制造活动主要集中在最终的封装和测试环节。封装测试是指对已生产出的合格晶圆进行专业的切割与减薄。
我国芯片科技再获突破!全球首颗超级芯片问世,AI技术引领世界
太极-II光芯片的诞生无疑是一个巨大的突破,但是从实验室的成果到真正改变我们生活的产品,还有一段漫长的路要走。这就像是发明了第一辆汽车,距离每家每户都能开上车还有很长的距离。首先要面对的就是量产的挑战。在实验室里制造出一两个样品是一回事,但要大规模生产出性能稳定、成本可控的产品,又是另一回事。
21万亿!全球最大芯片公司诞生,能顶3个台积电,凭什么这么厉害
而在这之后,英伟达也是不断进行芯片产品的研发,虽然在此期间也发生了资金短缺的问题,但英伟达始终没有放弃芯片的研发,于是在1997年的时候,也是推出了世界上首款3D处理器,而该处理器一经上市就受到了极大的关注,销量更是一路飙升,而英伟达也依靠此与国际上众多芯片企业建立了合作关系,而其中就包括台积电。再将芯片...
仅次于光刻、我国半导体制造核心技术突破,核力创芯首批氢离子注入...
IT之家9月11日消息,据国家电力投资集团有限公司(以下简称“国家电投”)9月10日消息,近日,国家电投所属国电投核力创芯(无锡)科技有限公司(以下简称“核力创芯”)暨国家原子能机构核技术(功率芯片质子辐照)研发中心,完成首批氢离子注入性能优化芯片产品客户交付。国家电投表示,这标志着我国已全面掌握功率...
美国要慌了!国产65nm光刻机实现量产,可多重曝光制造8nm芯片
根据工业和信息化部的信息,中国已经实现了65nm光刻机的量产,并且可以通过多重曝光制造8nm芯片。很多人可能不知道,采用ArF光源,也就是193nm波长的光源,这是第四代光刻机,这也标志着中国和ASML在光刻机上仅有1代的差距。光刻机发展这么久,最主要的还是所使用的光源的改进,每次光源的改进都显著提升了光刻机的...
我国首批氢离子注入性能优化芯片产品成功交付
我国首批氢离子注入性能优化芯片产品成功交付据国家电力投资集团有限公司(以下简称“国家电投”)宣布,其下属的国电投核力创芯(无锡)科技有限公司(以下简称“核力创芯”)暨国家原子能机构核技术(功率芯片质子辐照)研发中心,已顺利完成首批氢离子注入性能优化芯片产品的客户交付(www.e993.com)2024年9月18日。这一事件标志着我国在功率半导体制造领域...
我国半导体制造核心技术突破 仅次于光刻的重要环节打破国外垄断
据国家电力投资集团有限公司(以下简称“国家电投”)9月10日消息,近日,国家电投所属国电投核力创芯(无锡)科技有限公司(以下简称“核力创芯”)暨国家原子能机构核技术(功率芯片质子辐照)研发中心,完成首批氢离子注入性能优化芯片产品客户交付。国家电投表示,这标志着我国已全面掌握功率半导体高能氢离子注入核心技术和工...
我国半导体制造核心技术突破
近日,国家电投所属国电投核力创芯(无锡)科技有限公司(以下简称“核力创芯”)暨国家原子能机构核技术(功率芯片质子辐照)研发中心,完成首批氢离子注入性能优化芯片产品客户交付。这标志着我国已全面掌握功率半导体高能氢离子注入核心技术和工艺,补全了我国半导体产业链中缺失的重要一环,为半导体离子注入设备和工艺的全面国产...
中国重大技术突破,高端芯片稳了
能够生产EUV光刻机的更是只有荷兰ASML一家。如今随着中国氟化氩光刻机量产,ASML肯定会坐立难安。这不仅仅代表着中国能够独立生产DUV光刻机了,更让他们焦虑的背后是中国芯片产业链的崛起。前面我们也提到了高端光刻机需要用到几万个零部件,这里面很多零部件我们都会被外部封锁,导致我国光刻机长期无法取得进步。...
看了美国7月份154亿的芯片出口,再看中国芯片出口额,差距真不小
因为自中国能够自主研发芯片以来,我国的芯片技术实现了快速的上升,也有越来越多的国家愿意使用“中国芯”,逐渐打破了被西方国家和东南亚国家的垄断。同样,在芯片的投资方面,我国也是毫不吝啬,光是今年上半年,我国在芯片制造工具方面,就投入了高达250亿美元的资金,远远超过其他发达国家的资金支出。