“芯片荒”打不倒中国半导体,“28纳米”俱乐部又添新员

没错，那场让全球车企头疼不已的芯片短缺，罪魁祸首之一就是28纳米芯片。事实上，28纳米在半导体制造领域是承上启下的关键节点。它不像7纳米、5纳米那样追求极致性能，也不像微米级工艺那样成本高昂。28纳米以其适中的成本、卓越的性能和广泛的应用场景，被誉为半导体制造领域的“常青树”。这对于日渐崛起的中国新能...

中国大陆,第二家能制造28nm芯片的厂商,诞生了

而从技术来看，中芯国际断层领先，毕竟能帮华为制造麒麟9010芯片，就知道早进入10nm以下了。至于另外两家，而华虹主要还是制造40nm及以上的芯片为主，连28nm都没有搞定。而晶合集成，之前也是只为客户提供150-40纳米不同制程工艺，也是远远落后于中芯国际的。但是近日，有消息传出，国内晶圆代工大厂晶合集成发布公告，已...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

台积电说中国能造8nm,华为却认为制造先进芯片面临很大困难背后

他表示:“国产氟化氩光刻机它的波长大概193纳米,用193纳米要做一个8nm的技术,绝对是可能的,它要把193再除以2再除以2,就除到一个程度就会变成接近8nm,只要它在那个地方印好几次,就像一个东西,他这样印一遍就变成一半,于是再来玩一次再变成一半,这种东西在技术上是可行的。”我们知道,芯片制造商在使用光刻机...

国产芯片突破5纳米,美芯巨头直接将订单延续至2026年

5纳米工艺的突破，无疑为中国的芯片制造业注入了强劲的动力。5纳米工艺被视为目前全球最先进的芯片制造技术之一，而此前，这种高端工艺基本上被台积电和三星等寡头企业所垄断。如今，通富微电实现了这一技术的突破，意味着中国芯片制造业在全球技术竞争中迈出了关键一步。尽管封装和测试并非芯片制造的核心工艺，但它们...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

上海微电子装备公司已经取得了可喜的进展,成功研制出了能够制造28纳米芯片的光刻机(www.e993.com)2024年11月9日。虽然这与最先进的3纳米工艺还有一定差距,但中国正在积极研发更先进的光刻机技术,包括极紫外光刻机。更令人振奋的是,中国并未止步于此。国内多个研究机构和企业正在积极研发更先进的光刻机技术,包括EUV光刻机。

科技企业高管说:我国芯片技术能解决7纳米已很了不起,3/5纳米不容易!

台积电尚且无法实现以DUV光刻机生产5纳米,这里的专家却不断吹嘘可以DUV光刻机生产5纳米,甚至突破到3纳米,事实上,对于国产半导体厂商来说,未来很长时间想要生产7nm及其以下的芯片依然是困难的。目前,中国的芯片虽然设计、封测能达到3nm水平,但最关键的生产能力还在10nm~28nm成熟制程之间发力。不过,对于绝大多数...

【新华社】我国科学家开发出可规模制造的光子芯片材料

光子芯片是未来信息产业的重要基础,业界一直在寻找可规模制造光子芯片的优势材料。中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣领衔的团队在该领域取得突破性进展,他们开发出钽酸锂异质集成晶圆,并成功用其制作高性能光子芯片。该成果5月8日发表于国际学术期刊《自然》。

华为很清醒:别想3nm、5nm,目前7nm工艺对中国芯最重要

这个XX纳米已经是一种等效法,即它等效于XX纳米。举个例子说明,我在10nm工艺上,进行了技术、架构、设计的改进后,芯片制造工艺其实还是10nm,但我这么一调整后,芯片性能提升了20%,降低了20%等,这种工艺,可以认为是10nm的下一代,也就是7nm的,这个7nm并不是真的7nm,而是等效7nm。

2024,中国芯片还需更多DUV光刻机

当地时间1月1日,荷兰光刻机巨头ASML发布声明称,荷兰政府已于近期部分吊销了向中国大陆出口部分芯片制造设备的许可证,涉及设备型号为NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统,并遗憾表示“可能会对少数客户带来影响”。少数客户是谁,影响范围可能有多大?ASML没有答案。