英伟达GPU要缺到什么时候?

图1服务器出货数量、AI服务器比例以及AI芯片用晶圆比例来源:JoannaChiao(TrendForce),"台积电的全球战略和2024年半导体晶圆厂市场展望"(TreendForceIndustryFocusInformation,2023年12月14日)关于这个原因,笔者在此前的文章中进行了如下分析:这个原因可以归结为AI半导体的供应瓶颈。目前,约占AI半导体80%的NVIDI...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

高端的工艺制程具有更小的线宽以及更高的曝光分辨率,这就需要提到极其重要的瑞利公式:R=K*λ/Na,K为工艺因子常数,其理论极限值是0.25,λ为光源波长,Na为物镜的孔径数值。光刻机可以通过提高工艺水平(缩小K值),缩小光源波长,提高数值孔径的方式来提高分辨率水平。(2)缩小光源波长可以提高分辨率。光刻机光源共经历...

台积电“攻防战”

但需要注意的是,数值孔径(NA)是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。ASML的高数值孔径EUV光刻机,将NA值从0.33增加到0.55,更强的聚光能力意味着能够处理更加精细的几何尺寸,同时这也是继续推进半导体制程进化的路线之一。因此,英特尔作为第一家使用高数值孔径工具启动大批量...

光刻设备行业深度研究:半导体设备之巅,冰山峰顶待国产曙光

其中,K1为工艺因子常数,与照明方式、掩膜类型、光刻胶显影性能等参数相关;λ为光源波长;Na为物镜的孔径数值。光刻机不断提高物镜的孔径数值,并采用波长更短的光源来提高分辨率水平。SVGL公司于1993年推出的MicrascanII型光刻机,采用250nm汞灯光源,分辨率为350nm,孔径数值为1.35。1995年...

关于存储芯片的7个常识——存储系列之二

简单记就是:DR??AM主要用作内存,而NA??ND主要用作硬盘。二,技术路线:DR??AM来到DDR5,NA??ND迈入3D时期1,DR??AM:从DDR1到DDR5固态技术协会(JE??D??EC)定义了三种DR??AM标准类别:DDR、LP??D??DR、GD??DR。其中,DDR因其性能和成本优势成为目前PC和服务器端主流内存。

每日一学--23考研英语高频词汇day12

n.身份;统一性同义词recognize[??rek??ɡna??z]v.识别,认出recognizethelimitationsofadvertisements认识到广告的局限性同义词classify[??kl??s??fa??]v.分类;归类;分等title[??ta??t(??)l]title[??ta??t(??)l]...

第五届“6·18”国外电子信息产业项目成果

(Al,Fe,Cu,Ni,Cr,ZnNa,K,Li,W,Mo,Ti)宣布的多晶半导体硅生产方法有以下优点:2完全避免了向工业厂房和大气中倾倒有毒化学物质;2技术方法密封,实际上避免了从外部使用反应物(无反应物技术);2省去了爆炸过程;2简化了非标准设备的生产;...

“萤”获得“氟”

氟气(fluorine),在英文里它指有强腐蚀性的物质,在法语中有破坏的意思。它的名字似乎就是一种警示,警示人们不要轻易靠近它。然而,“求知”精神像一股奇异的力量,推动着一批又一批的科学家们冒着生命危险去探索这神秘物质背后的秘密。1529年德国矿物学家格奥尔格·阿格里科拉(G.Agricola)在他的著作中最早提到了...