图说光刻机的4大核心技术

ArFi(ArF浸没式光刻):ArFi是"ArgonFluorideImmersionLithography"的缩写,指的是使用ArF(氟化氩)激光源的浸没式光刻技术。ArFi光刻技术使用193纳米波长的光源,通过浸没式在光刻机镜头和硅片之间使用液体(通常是水)作为介质,来提高光的分辨率。这种技术允许在45纳米及更大工艺节点的芯片制造中实现更高的精度。ArFi...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

曾经,有人认为我国永远无法掌握高端光刻机技术,尤其是荷兰阿斯麦公司(ASML)曾公然宣称,即便给出光刻机的完整设计图纸,我国也无法造出一台。然而,时光荏苒,风云变幻,几年后,我国不仅打破了这一预言,更在高端制造领域实现了令人瞩目的自主创新突破。近期,我国自主研发的氟化氩光刻机顺利问世,这一成就不仅打破了西方...

3纳米光刻机 国产光刻机厂家

###3纳米光刻机的技术革新3纳米光刻机，顾名思义，是指其加工精度可达到3纳米级别的光刻设备。在纳米尺度上，每一个微小的进步都意味着对材料科学、精密制造以及环境控制等领域的极限挑战。传统意义上的“纳米”指的是1亿分之一米，而3纳米则意味着可以精确到0.003微米，这样的精度要求设计和生产过程必须达到...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

光刻机被称为芯片制造的“皇冠”，其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造纳米级芯片的必备设备。而光刻机的研发与制造，不仅需要在光学、材料学和电子技术等领域达到全球顶尖水平，还需要整合跨国供应链中的核心技术。全球光刻机龙头企业荷兰ASML，几乎垄断了最先进的光刻机生产，并依赖多个国家的技术合作。这意味着...

工信部首台套光刻机,到底是几纳米的

英特尔断供华为芯片,华为两大动作让其认清现实36评论2024-10-2000:35老婆说这个装备很厉害,兄弟们帮我看看是真的吗?广告伏魔战歌了解详情6073|03:01我们五十多年前的技术,至今仍然世界前三2评论2024-08-301.6万|02:27中国的灭蚊神器,印度想要购买9评论2024-08-281.4万|06:52八旬芯片大佬,...

工信部首台套光刻机,到底是几纳米的

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-f5eb9a15ba4745c17b7a5dd6c9cd17a8工信部首台套光刻机,到底是几纳米的2024-09-1607:00发布于北京|21万观看72564123514手机看雷哥聊工业粉丝1.3万|关注0+关注...

350纳米工艺!俄罗斯第一台自研光刻机问世!这是什么水平?

资料显示,俄罗斯的350nm光刻机采用的是超紫外线平版印刷术。据塔斯社解释,平版印刷是生产纳米结构的最广泛的技术之一。最初,平版印刷是一种印刷方法,通过在压力下将油墨从平坦的印版转移到光滑的表面来进行印刷。而微纳电子学中,光刻在硅基板表面的特殊敏感层(抗蚀剂)中形成浮雕图案,该图重复了微电路的几何形状。

生命科学领域“光刻机”全球竞速,中国企业在纳米孔测序仪新赛道...

9月9日,华大正式宣布加入纳米孔基因测序仪阵列,面向全球发布最新测序技术——CycloneSEQ测序技术,两款拥有自主产权的纳米孔测序仪首次对外推出。生命科学领域的“光刻机”华大集团CEO、执行董事尹烨将基因测序仪视作生命科学领域的“光刻机”,而华大自主研发生产这台“光刻机”的缘由外界并不陌生。

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

该研究指出,对于0.93数值孔径的65纳米光刻机,单次曝光要求的套刻精度为8纳米,而在双重曝光模式下,要求进一步提高到5.6纳米。这意味着,即便是8纳米套刻精度,在双重曝光至40纳米分辨率的需求面前也显得不够。况且,40纳米仅是浸没式光刻机单次曝光的水平。

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

哦?350nm至28nm,这里也出现了28nm,有点意思。第四个问题:如果是分辨率65nm的干式步进式光刻机,相当于什么水平?能做多少纳米芯片呢?直接说答案,从性能参数来看,大概相当于ASML的XT1460k。1460k不知道什么时候生产的,但是1470是2020年的产品。所以有人说不如ASML20年前的技术是不对的。