复旦大学电子束光刻系统机台采购项目公开招标公告

1、项目编号:0811-DSITC243510/HW20241113022、本项目采用电子招标方式,并在电子采购平台(复旦大学采购与招标管理系统,网址为:httpscz.fudan.edu)操作,进入平台后,供应商可在系统通知栏目下载供应商投标操作手册。电子采购平台技术咨询电话:400-808-5975转2。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。

从沙子到芯片:芯片的原理和制造过程

最后,把显影液喷洒到晶圆表面的光刻胶上,对曝光图形显影,于是掩模上的图形就被存留在了光刻胶上。光刻工作原理光学透镜的作用是:可以聚集衍射光提高成像质量,在光刻技术中为得到尽可能小的图案,在掩模板和光刻胶之间采用了一种具有缩小倍率的投影成像物镜。上述过程后,没有被掩模遮挡的光在显影液作用下会使...

聚焦先进光刻热潮,激发国际交流活力--第八届国际先进光刻技术研讨...

使用光分解猝灭剂以降低光刻图案的粗糙度、采用负性显影技术以提高图案分辨率并在显影过程中降低表面张力、利用非化学放大机制以避免化学放大光刻胶中酸扩散对图案粗糙度的影响等一系列研究手段能有效提高光刻胶整体性能。这些研究对最先进的光刻技术,特别是极紫外(EUV)光刻和电子束光刻具有重要意义。报告人:FengLuo...

国产光刻胶通过量产验证!备受热捧的“光刻胶”是什么?

该公司科研人员介绍，光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻环节，工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光，经过一系列处理后，晶圆上就会得到所需的电路图。近期还有哪些光刻胶相关的大动作？咱们接着往下看↓...

西安交通大学教授:微纳制造技术的发展趋势与发展建议

近年来,国内开展了各种先进的光刻技术研究,包括短波光刻、电子束光刻、X射线光刻和离子束光刻等,使得光刻尺寸和精度得到了显著提高。通过对2012—2022年国内外不同光刻技术相关的公开发表论文数量变化趋势(图1(a))及2017—2022年不同光刻技术所承担的工作(图1(b))进行对比分析,可以看出半导体工业对光刻的需求仍在...

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

投影式光刻技术20世纪70年代中后期出现投影光刻技术,可以有效提高分辨率(www.e993.com)2024年11月25日。投影式光刻示意图基于远场傅里叶光学成像原理,在掩膜版和光刻胶之间采用了具有缩小倍率的投影成像物镜。早期掩膜版与衬底图形尺寸比为1:1,随着集成电路尺寸的不断缩小,出现了缩小倍率的步进重复光刻技术。

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

投影式光刻技术20世纪70年代中后期出现投影光刻技术,可以有效提高分辨率。投影式光刻示意图基于远场傅里叶光学成像原理,在掩膜版和光刻胶之间采用了具有缩小倍率的投影成像物镜。早期掩膜版与衬底图形尺寸比为1:1,随着集成电路尺寸的不断缩小,出现了缩小倍率的步进重复光刻技术。

泽攸科技自研电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

据悉,2023年3月,泽攸科技与松山湖材料实验室共同投资2400万元,成立联合工程中心,目标是打造电子束技术创新基地。工程中心将深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发,实现电子束装备的自主可控。图为泽攸科技(ZEPTOOLS)电子束光刻机部分应用案例业内人士透露,目前泽攸科技已在自主研制的扫描电镜基础上,完成电子束...

光刻技术,新里程碑

多光束直写则是另一个选择。和纳米压印一样,这其实也并不是什么新技术。早在20世纪80年代,IBM就开发出了这种直写光刻技术。从原理上看,多光束直写利用加速电子束在涂有电子束敏感光刻胶的基板上刻画出小于10纳米的特征。暴露在电子束下会改变光刻胶的溶解度,从而能够通过将光刻胶浸入显影剂中来选择...

光刻技术,有了新选择

选择之三:电子束光刻(EBL&MEBL)技术说到电子束光刻技术,在这里要再提及一下光刻技术的原理。众所周知,光刻是整个微加工工艺中技术难度最大,也是最为关键的技术步骤。所谓光刻就是通过对光束进行控制,在一层薄薄的光刻胶表面“刻蚀”出我们需要的图案,光束照过的位置光刻胶的化学性质会发生变化,通过显影液...