华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机
一、工作原理湿法刻蚀:在将产品放入槽内后,槽盖密封关上,体内开始进行抽真空模式同时超声波开启,此方式利用超声波清洗在一定真空度下优质的空穴效应,增强化学蚀刻溶液与被蚀刻物体表面发生化学反应,排除工件表面和孔隙中的空气,从而有效的剥离或去除部分杂质或材料。DIW清洗:在刻蚀完成后,酸液回收冷却,槽内依然在一...
水晶技术之微纳光学系列 | 光学领域的革命性突破——超透镜
超透镜的工作原理基于广义斯涅耳定律[1],它允许在极小的尺度内调整光学波前的相位和振幅。与传统透镜依赖于介质的厚度变化来改变光波前不同,超透镜通过单元结构的几何变化在传播路径中引入特定相位来实现光波的精确控制。图2广义斯涅尔定律原理推导图(a)正常介质光路传播(b)超材料中光路传播式(1)是传统斯涅尔...
桌面型等离子设备介绍|粒子|原子|等离子体_网易订阅
桌面型等离子设备的工作原理具体来说,桌面型等离子设备通过高频电源产生高压电场,使气体分子电离形成等离子体。然后,等离子体被引导至物体表面,与物体表面的原子或分子发生碰撞、激发、解吸等过程,从而实现对物体表面的清洁、刻蚀、聚合、沉积等功能。桌面型等离子设备的特点01高效性:桌面型等离子设备能够快速、均匀地对...
半导体制造技术之刻蚀工艺
第一步钝化过程,C4F8在等离子状态下分解成CF+x基,与硅表面反应形成高分子钝化膜,第二步刻蚀,通入SF6气体,增加F离子分解,F-与nCF2反应刻蚀掉钝化膜并生成挥发性气体CF2,接着进行硅的刻蚀。trenchETCHtrenchETCH中主要涉及的气体有CF4、SF6、CHF3、O2、AR-S,其中SF6、CHF3、和O2用在主刻步,原因是F原子...
晶圆级封装(WLP),五项基本工艺
图7显示了静态显影方法的工作原理。完成静态显影后,通过光刻技术使光刻胶形成所需的电路图案。溅射工艺:在晶圆表面形成薄膜溅射是一种在晶圆表面形成金属薄膜的物理气相沉积(PVD)工艺。如果晶圆上形成的金属薄膜低于倒片封装中的凸点,则被称为凸点下金属层(UBM,UnderBumpMetallurgy)。通常凸点下金属层由两层或...
光刻技术的过去、现在与未来
光刻技术的关键原理与工作流程光刻技术的应用与发展现状当前光刻技术面临的挑战与解决方案光刻技术的未来发展方向光刻技术作为一项精密的微纳米加工工艺,通过将设计好的微小图案转移到光敏感的材料表面,为各个领域的微细结构制造提供了技术支持(www.e993.com)2024年10月19日。其核心在于利用光刻机,将精准的图案投射到光敏感材料上,从而实现微...
效率性能达26.7%!中国科大钙钛矿太阳电池研究破世界纪录,徐集贤...
钙钛矿太阳能(4.820,-0.17,-3.41%)电池是一种新型的太阳能电池,其独特的三明治结构和基于光伏效应的工作原理,使得它在能量转换效率上展现出惊人的潜力。当太阳光照射到钙钛矿半导体材料上时,光子被吸收并激发出电子,这些电子与空穴之间形成的电势差,通过电荷传输层的提取,最终实现了对外的电能输出。这一过程不仅高效,而...
一文详解Micro LED技术及关键组成架构和市场概况
利用磁力的原理,是在LED器件中混入铁钴镍等材料,使其带上磁性。在抓取的时候,利用电磁力控制,达到转移的目的。目前ITRI,PlayNitride在这方面做了大量的工作。3.1.3采用静电力Luxvue是苹果公司在2016年收购的创业公司。其采用的是静电力的peak-place技术。其具体的实现细节我没有查到,只有如下的两个专利或许能...
未来生物识别的“光谱猎手”:高光谱传感器产业化之路初现
微型高光谱MEMS芯片的工作原理如下:①入射光经过准直透镜或光纤输入到芯片的传感区域。②在传感区域中,光被分散并通过一系列微小的光栅。③每个光栅会选择性地反射或透射出特定波长范围的光信号,形成不同光谱的路径。④一个光谱相机或其他光谱传感器会捕获并记录每个波长的光信号。
EUV光刻机,大结局?
STED技术原理图超分辨成像的目的是将微小的物体放大,以供人类观察。但实际上,反过来的光刻过程(投影缩小)也是可行的。受STED成像技术的启发,2009年,光刻技术研究者提出了基于单色边缘抑制的快速超分辨直写光刻技术。一束532nm的飞秒激光用作“铅笔光”,形成实心光斑,实现光刻胶的双光子吸收激发聚合;另一束532nm...